第三代母線槽。復(fù)合絕緣型母線槽除了導(dǎo)電排本身具有絕緣層外，各相線之間還有一定的空氣介質(zhì)絕緣。在各種彎頭采用硫化絕緣技術(shù)。直線段采用MT-7-3橡膠套管。硫化絕緣技術(shù)：材料為CZ260快固絕緣粉末，采用四元交聯(lián)固化，絕緣層與導(dǎo)電排間無(wú)間隙。其散熱性能、防潮性能、絕緣可靠性能均優(yōu)。但由于成本較二代母線偏高而未能廣泛推廣。其他相關(guān)情況：1、 1995年和2000年國(guó)家監(jiān)督抽查結(jié)果，國(guó)產(chǎn)母線槽合格率由57.14%上升到71.4%2、 母排焊接：L形（平彎）和T形等母排，都是采用母排焊接，但國(guó)標(biāo)ENJ防水母線。還沒(méi)有相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，據(jù)說(shuō)在考慮采用焊縫探傷（按GB3323的Ⅲ級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）3、 如今已經(jīng)有護(hù)等級(jí)IP66以上的，解決了防水問(wèn)題。上海外高采用了國(guó)內(nèi)IP68的室外母線槽，4、 與電纜相比的優(yōu)缺點(diǎn)，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是樹(shù)干式供電與式供電的差別。在熱浸鍍鋅時(shí)容易產(chǎn)生變形等問(wèn)題，需要在電纜橋架的結(jié)構(gòu)上及鍍鋅工藝上加以考慮。

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母線槽在現(xiàn)在大型的供電建筑中應(yīng)用廣泛，在很多供電系統(tǒng)中沒(méi)有母線槽是很難正常運(yùn)行的，因?yàn)楝F(xiàn)在的經(jīng)濟(jì)發(fā)展越來(lái)越好，普通的供電設(shè)備已經(jīng)無(wú)法滿足人們對(duì)用電量的需求，而母線槽的出現(xiàn)可以很好的解決這一問(wèn)題，所以大家跟隨筆者去了解一下母線槽的應(yīng)用吧!封閉母線(Enclosedbusbars或者Closedbusbars)是由金屬板(鋼板或鋁板)為保護(hù)外殼、導(dǎo)電排、絕緣材料及有關(guān)附件組成的母線系統(tǒng)。母線槽應(yīng)用在大型的供電設(shè)備中，可以有效的解決供電不足的情況，尤其是在一些大型工廠的生產(chǎn)生活中，使用母線槽是非常有必要的，所以隨著科技的不發(fā)展，對(duì)位對(duì)母線槽的應(yīng)用會(huì)越來(lái)越廣泛。母線槽的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)在于，其體積非常的小巧，所以在進(jìn)行安裝的時(shí)候，無(wú)論是搬運(yùn)還是運(yùn)轉(zhuǎn)，都非常的便捷。而同時(shí)母線槽又有很大的容量，因此供電力是很強(qiáng)的，制作時(shí)間也比較短，可以節(jié)約出大量的時(shí)間，去做其他的事情。

 表面防護(hù)技術(shù)有多樣化途徑：1.僅涂層防護(hù)方式就分有金屬、有機(jī)物、無(wú)機(jī)物三類。而金屬深層可采取電鍍、粉鍍、熱浸、溶噴、金屬包層等；除普通鋅金屬外，尚有各種組合的鋅合金或鋁等。.又如有機(jī)物涂層。僅涂料就可有多種樹(shù)脂供選擇等等。故不能把表面防護(hù)技術(shù)視為靜止不變的，諸如在技術(shù)經(jīng)濟(jì)性方面，宜不斷求得進(jìn)步。對(duì)嚴(yán)酷腐蝕環(huán)境且耐久性要求高的工程條化，宜探尋更切會(huì)需要的表面防護(hù)處理方式。母線槽的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)在于，其體積非常的小巧，所以在進(jìn)行安裝的時(shí)候，無(wú)論是搬運(yùn)還是運(yùn)轉(zhuǎn)，都非常的便捷。

涂防銹漆：.對(duì)于結(jié)構(gòu)尺寸較大的構(gòu)件，由于受鋅鍋、鍍槽、烘箱等的限制，一般只能采用涂防銹漆的方法來(lái)處理。它雖然具有成本低、使用方便等特點(diǎn)；但防腐蝕能力較差。使用壽命短，維護(hù)工作量大，一般不宜采用。（產(chǎn)品如“防銹漆電纜橋架”）采用鋁合金制作橋架，國(guó)外早已應(yīng)用。無(wú)論是沿海含鹽分地區(qū)或高濕度又含有氣體地區(qū)。鋁合金材料制成的電纜橋架，采用自然暴露，測(cè)試結(jié)果表明比鋼制電纜橋架具有顯著的優(yōu)越的耐腐蝕性，尤其是鋁合金采用陽(yáng)極氧化后其防腐效果更佳，現(xiàn)代產(chǎn)品如：“鋁合金電纜橋架”。特別提醒：電纜是按照截面來(lái)表示的，母線槽是按照額定工作電流表示（一般都說(shuō)400A母線槽）同樣400A的國(guó)內(nèi)的產(chǎn)品截面240mm，有的才180mm。