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溫度的影響
鍍液溫度對(duì)鍍層有較大的影響[1]。溫度較低會(huì)導(dǎo)致鍍層內(nèi)應(yīng)力增大,陰極的電流效率較低,允許的電流密度較低,沉積速度變慢,并且鍍層質(zhì)量變差。當(dāng)溫度低于50℃沉積速度會(huì)變得很慢[9]。升高溫度將提高陰極電流效率,沉積速度也會(huì)隨之增大,獲得的鍍層會(huì)更加細(xì)致光亮。但溫度過(guò)高容易引起鍍液中的添加劑變質(zhì),增加電能的消耗,鍍液的維護(hù)也變得困難
環(huán)保鎳電鍍工廠(chǎng)化學(xué)鍍鎳 影響電鍍液覆蓋能力的因素
基體材料本性的影響。實(shí)踐表明,在不同的基體材料上電沉積金屬時(shí),同一鍍液的 覆蓋能力也有很大差別。例如,用---溶液在銅、鎳、黃銅和鋼上鍍鉻時(shí),鍍液的覆蓋能力依次遞減。這是因?yàn)樵诓煌w材料上金屬離子還原時(shí)的析出過(guò)電位數(shù)值差別很大,在過(guò)電位較小的基體上金屬的析出電位較正,即使在電流密度較小的部位也能達(dá)到其析出電位的數(shù)值,所以其覆蓋能力較好。
化學(xué)鍍鎳 影響電鍍液覆蓋能力的因素
基體材料表面狀態(tài)的影響。基體材料的表面狀態(tài)對(duì)覆蓋能力的影響比較復(fù)雜,一般情況下,一個(gè)鍍液在光潔度高的表面上的覆蓋能力要比其在粗糙表面上的好。這是因?yàn)樵诠鉂嵍雀叩谋砻嫔险鎸?shí)電流密度大,容易達(dá)到金屬的析出電位,而粗糙的表面,由于其真實(shí)表面積大,其真實(shí)電流密度較小,化學(xué)鎳電鍍,使得一些部位不易達(dá)到金屬的析出電位,而沒(méi)有鍍層沉積。