真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料）。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。

相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種鍍膜，它的主要方法包括以下幾種

1、真空蒸鍍：其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。

2、濺射鍍膜：濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

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鍍膜前可經(jīng)電子束預熱表面活化，鍍膜純度高，沒有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時鍍兩種材料達到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。