鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點(diǎn)

1.   分析流程全自動化控制，實現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調(diào)諧，功率參數(shù)程序設(shè)定；      

3.   優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，先進(jìn)的控制系統(tǒng)，保證峰位定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良；

4.   較小的基體效應(yīng)；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級；

6.   檢出限低，大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級；

7.   良好的測量精度，穩(wěn)定性相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%（5ppm），優(yōu)于國家A等級標(biāo)準(zhǔn)（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào)，可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng)，保證儀器優(yōu)良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進(jìn)樣，保證儀器進(jìn)樣均勻，工作穩(wěn)定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規(guī)定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計，操作方便，終身免費(fèi)升級。功能強(qiáng)大、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測定過程中，進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，方法編制和結(jié)果分析，是真正的多任務(wù)工作軟件；該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，提供了多種方法，如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測功能等，可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾；對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結(jié)果報告。

鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進(jìn)樣方式：蠕動泵進(jìn)樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復(fù)性：RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%

儀器規(guī)格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標(biāo)準(zhǔn)項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項”成果。