自動控制系統(tǒng):包括溫度控制

自動控制系統(tǒng)：包括溫度控制，溫度控制，風量風壓控制，開啟順序和時間控制;電氣系統(tǒng)：照明，電力和弱電，包括凈化燈，插座，電氣柜，線路，監(jiān)控，電話等強弱系統(tǒng);給排水系統(tǒng)：供水，排水管道，設施和控制裝置;地面系統(tǒng)：環(huán)氧樹脂通常用于清潔地面。 信封結構系統(tǒng)：簡單來說，它是頂部，墻壁和地面，即構成三維受限空間的六個面。精美，包括門窗，裝飾弧等;管道系統(tǒng)：包括供氣，回風，新風，排風管，端部和控制裝置;

千級凈化手術室,對于腦部手術十分必要

千級凈化手術室，對于腦部手術十分必要。以前不敢做或不能做的手術，由于有了較高的凈化環(huán)境，現(xiàn)在國內(nèi)許多醫(yī)院都可以做了。在電子工廠，由于有了較高的凈化環(huán)境，可以在很小的體積上，集成幾千萬個電子元器件。我們常用的手機等電子產(chǎn)品，就必須有良好的凈化環(huán)境才能生產(chǎn)。才會愈做愈精、功能愈做愈大。在凈化環(huán)境下，我們的計算機房，不會因為灰塵產(chǎn)生故障。在實驗室，我們的實驗不會受到灰塵的干擾。在工廠，我們可以生產(chǎn)出保質期很長的放心食品。凈化環(huán)境的廣泛應用，造福社會、造福人類。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。