【廣告】
真空鍍膜設(shè)備_磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)應(yīng)用
蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機(jī),主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器,所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點,又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡,更可方便地實現(xiàn)自動生產(chǎn)線,是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。本機(jī)鍍部分產(chǎn)品可不做底油。
真空鍍膜設(shè)備機(jī)主要特點配用改進(jìn)型高真空排氣系統(tǒng),抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制,操作簡單,工作可靠;蒸發(fā)鍍應(yīng)用新型電極引入裝置,接觸電阻小且可靠;磁控濺射應(yīng)用鍍膜材料廣泛,各種非導(dǎo)磁的金屬、合金均可作鍍料;結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小;磁控、蒸發(fā)共用兩臺立式工件車,操作方便。
(或雙門蒸發(fā)、磁控兩用機(jī))至成真空科技業(yè)務(wù)范圍真空鍍膜成套設(shè)備與技術(shù),真空工程用各種泵、閥、真空計、油、脂、密封件,真空鍍膜材料、涂料、金屬及合金制品。
真空鍍膜設(shè)備故障診斷與排除、老產(chǎn)品改造。新型塑料、金屬、玻璃等制品表面處理工藝及技術(shù)研究,咨詢服務(wù)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝至成真空科技新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機(jī),配用改進(jìn)型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng),抽速快、、操作簡單、工作可靠;具有可鍍膜系廣、膜層均勻、附著力好、基板溫度底等特點;是鍍制金屬、合金及化合物膜的理想設(shè)備;適合鍍制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已廣泛應(yīng)用在光學(xué)、電子、通訊、航空等領(lǐng)域。
光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為哪些膜
光學(xué)真空鍍膜機(jī)薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為:反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補(bǔ)償膜/相位差板、配向膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類有光學(xué)級保護(hù)膜、窗膜等。
光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)薄膜的特點是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,起表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。
離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法
不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理,有的還用激光焊接,水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用,今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。
其實大家都知道,以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法,各自有各自的優(yōu)勢和劣勢。如:拋光作業(yè)會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟;尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物;砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑,或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮;噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上;化學(xué)蝕刻會有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi),或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì);激光雕刻處理會產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留;數(shù)控機(jī)床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留,還會有基材碎片被壓入基體上;激光焊接也會導(dǎo)致高溫氧化等;水法電鍍鉻層會生成難以去除的復(fù)雜氧化物,這些處理引起的污染不徹底清除會導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。
在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的,而是多種作業(yè)組合,這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的,必須調(diào)整清洗工藝,對不同的污染,可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果,但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù),該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?
真空PVD鍍膜涂層工藝有那些步驟呢?
今天至成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下真空PVD鍍膜涂層工藝操作步驟,它的先后順序是怎樣的,有那些細(xì)節(jié)和原理是必須要了解的。
首先在處理工藝前,需要褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。鍍膜工藝,抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。后處理工藝:首先清洗環(huán)節(jié),確保真空鍍膜機(jī)鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔,越新鮮的表面,越能保證鍍膜質(zhì)量;然后再抽真空將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。接下來加熱烘烤,爐體和工件同時加熱,加速殘余氣體的釋放。壓升率測試,測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗,去除工件表面的雜志,露出新鮮表面。鍍膜,沉積膜層。冷卻,避免工件氧化變色。為什么要進(jìn)行冷卻,鍍膜工藝完成后,真空室內(nèi)溫度高達(dá)500℃,如果不冷卻就放氣,沒有被鍍上膜的高溫工件表面會因為與空氣反應(yīng)氧化變成藍(lán)色。