大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因?yàn)槭褂猛粴怏w的所有使用點(diǎn)來自于同一個(gè)氣源。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的特點(diǎn)

1、特點(diǎn)：試驗(yàn)室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。

2、經(jīng)濟(jì)性：建一個(gè)集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗(yàn)室空間，更換氣瓶時(shí)不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因?yàn)槭褂猛粴怏w的所有使用點(diǎn)來自于同一個(gè)氣源。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。此種供應(yīng)方式終會(huì)減少運(yùn)輸費(fèi)用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。

3、使用率：集中管道供應(yīng)系統(tǒng)可以將氣體出口放置在使用點(diǎn)處，這樣的話可以更合理的設(shè)計(jì)工作場所。

4、安全性：保證其儲(chǔ)存和使用的安全性。保障分析測試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏檢測規(guī)定

1、氦檢漏儀表應(yīng)采用質(zhì)譜型氦檢測儀，其檢測精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、閥座測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦檢漏發(fā)現(xiàn)的泄漏點(diǎn)經(jīng)修補(bǔ)后，應(yīng)重新經(jīng)過氣密性試驗(yàn)，合格后再按規(guī)定進(jìn)行氦檢漏。所有可能泄漏點(diǎn)應(yīng)用塑料袋進(jìn)行隔離。系統(tǒng)測試完畢，應(yīng)充入高純氮?dú)?，并進(jìn)行吹掃。測試完畢后，應(yīng)提交測試報(bào)告。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。反應(yīng)時(shí)間：也稱響應(yīng)時(shí)間，是指從檢漏方法開始實(shí)施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔最1大泄漏率的63%時(shí)所需要的時(shí)間。