下游發(fā)展趨勢

光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%到50%。這些化學成分發(fā)生變化的區(qū)域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。2016年全球半導體用光刻膠及配套材料市場分別達到14.5億美元和19.1億美元，分別較2015年同比增長9.0%和8.0%。預計2017和2018年全球半導體用光刻膠市場將分別達到15.3億美元和15.7億美元。隨著12寸先進技術節(jié)點生產線的興建和多次曝光工藝的大量應用，193nm及其它先進光刻膠的需求量將快速增加

光刻膠京東方

事實上，我國是在缺乏經驗、缺乏專業(yè)技術人才，缺失關鍵上游原材料的條件下，全靠自己摸索。目前，上游電子化學品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進口，必須加快面板產業(yè)關鍵核心材料基礎研究與產業(yè)化進程，才能支撐我國微電子產業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。近年來，盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破，但國產光刻膠還是用不起來。目前，國外阻抗已達到15次方以上，而國內企業(yè)只能做到10次方，滿足不了客戶工藝要求和產品升級的要求，有的工藝雖達標了，但批次穩(wěn)定性不好。

“10次方的光刻膠經過多次烘烤，由于達不到客戶需求的防靜電作用，不能應用到新一代窄邊框等面板上。而國外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產工藝方面存在問題。”李中強說。

關鍵指標達不到要求，國內企業(yè)始終受制于人。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說，目前已建立17個面板顯示生產基地，其中，有16個已經投產。但京東方用于面板的光刻膠，仍然由國外企業(yè)提供。

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光刻膠穩(wěn)定性

化學穩(wěn)定性：在正常儲存和操作條件下，在密閉容器中室溫穩(wěn)定。

避免的條件: 火源、濕氣、過熱的環(huán)境。

不相容的其他材料: 強氧化劑。

光刻膠毒理資料

淡黃色液體，氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激?？梢酝ㄟ^皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。

毒性數據

皮膚：可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀，類似于吸入。長時間或重復接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。

眼睛：引起眼睛發(fā)炎。

吸入：吸入時可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導致困倦和頭暈。

攝食：吞食有害。

延遲效應：肝和損害，以及動物實驗中有報道血液和GU髓有影響。