定時對在用加熱爐的單位產品能耗水平及現(xiàn)狀進行調查，加強節(jié)能監(jiān)測力度，以確認加熱爐合格的實施方案。建立健全必要的熱工測量和控制儀表，制定司爐工操作規(guī)程，提高操作技術水平，加強保護保養(yǎng)，延長工業(yè)爐體壽命等都對節(jié)省燃料有重要的影響。加強加熱爐基礎數(shù)據(jù)的管理，加強加熱爐的日常管理，對在用加熱爐進行挖潛增效。重視改進燃料結構，準確控制空燃比，保證完全燃燒。

退火爐是一種用于制作半導體器材的工藝，它包括加熱幾個半導體晶片以影響其電功用。熱處理是為不同的效能而規(guī)劃的。硅片可以加熱以激起摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶圓-基板界面，從而改動細密堆積的薄膜，恢復生長的薄膜，恢復注入的損處，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜轉移到硅片。退火爐分為電加熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、退火爐和氣體退火爐，其間自備煤氣發(fā)生爐生產的氣體退火爐使用較為廣。

罩式退火爐具有結構新穎，爐溫亮光退火爐均勻、熱，能耗低，冷卻速度快，氣體耗量少，操作方便，自動化程度高等特色，該產品配上恰當?shù)谋Ｗo氣氛后，能使被處理的材料外表亮光，無氧化，并有效避免鋼材外表脫碳和銅材外表脫鋅等現(xiàn)象，它摒棄了傳統(tǒng)的酸洗工藝，降低了生產成本，該產品廣泛應用于黑色及有色金屬的帶材，線材，盤管的亮光退火及變壓器型芯，磁性材料部件消除應力的退火。