一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X射線(xiàn)熒光鍍層厚度分析儀基本原理

X射線(xiàn)熒光就是被分析樣品在X射線(xiàn)照射下發(fā)出的X射線(xiàn)，它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息，通過(guò)對(duì)X射線(xiàn)熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線(xiàn)熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí)，對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來(lái)說(shuō)，都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu)，其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線(xiàn)照射下脫離原子的束縛，成為自由電子，這時(shí)原子被激發(fā)了，處于激發(fā)態(tài)。X熒光光譜分析是一種非常常見(jiàn)的分析技術(shù)，二、應(yīng)用領(lǐng)域X熒光光譜儀作為一種常見(jiàn)的分析技術(shù)手段，在現(xiàn)實(shí)生活中有著非常廣泛的應(yīng)用，主要可以分為以下四大類(lèi)：1。此時(shí)，其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位，即所謂的躍遷，同時(shí)以發(fā)出X射線(xiàn)的形式放出能量。

由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的，它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線(xiàn)的能量也是特定的，稱(chēng)之為特征X射線(xiàn)。通過(guò)測(cè)定特征X射線(xiàn)的能量，便可以確定相應(yīng)元素的存在，而特征X射線(xiàn)的強(qiáng)弱（或者說(shuō)X射線(xiàn)光子的多少）則代表該元素的含量。

一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

鍍層厚度分析儀的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱(chēng)重法，X射線(xiàn)熒光法，β射線(xiàn)反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。這些方法中前五種是有損檢測(cè)，測(cè)量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。

X射線(xiàn)和β射線(xiàn)法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量，測(cè)量范圍較小，X射線(xiàn)法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線(xiàn)法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆

層測(cè)厚時(shí)采用。

常規(guī)鍍層厚度分析儀的原理

對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層，如涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等，在有關(guān)國(guó)家和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中稱(chēng)為覆層（coating）。覆層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。工業(yè)時(shí)代的科技是現(xiàn)代科技，科技是國(guó)之利器，國(guó)家要強(qiáng)大、人民生活要不斷改善，必須依托于強(qiáng)大科技。為使產(chǎn)品國(guó)際化，我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中，對(duì)覆層厚度有了明確的要求。

覆層厚度的測(cè)量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱(chēng)重法，X射線(xiàn)熒光法，β射線(xiàn)反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等。