帶鋼鍍膜質量好，能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預熱表面活化，鍍膜純度高，沒有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時鍍兩種材料達到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。

鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。光學鍍膜是在光學干涉原理，在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，使反射率在78-98%之間，以達到透光率，光學鍍膜技術一直是光學領域中不可忽略的重要基礎技術。

在我們的日常生活中，光學鍍膜隨處可見，如平時戴的眼鏡、數(shù)碼相機、各式家電用品，或者是上的防偽技術，領域的各種設備、軍事領域的等等。普遍的是在太陽光下看手機屏的字，由于反射光透不強，屏幕模糊，這需要屏幕的光學鍍膜來達到透射清晰效果。

      派瑞林納米涂層式一種高分子熱可塑性聚合體，由單體對二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運用氣相沉積的處理技術，可以于物體表面均勻coating形成膜層，薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范圍內(nèi)任意調(diào)整。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質。由于在真空狀態(tài)下操作蒸氣無孔不入效率，可形成無膜層， 并地控制膜層厚度，且各處厚度均勻一致，使派瑞林（(Parylene Coating)涂層的覆被特性遠優(yōu)于Epoxy（電泳）、Spary（噴涂）、Dipper（含浸）等涂裝方式。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠不能與熱浸鍍、電鍍相比。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。