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北京真空鍍膜設(shè)備廠家免費(fèi)咨詢

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-23 18:13  









柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備


HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品,傳感器,RFID標(biāo)簽,智能玻璃,智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,在滿足當(dāng)今和未來市場需求的同時(shí),成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無限的可能性,在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力,應(yīng)用大量的現(xiàn)場測量傳感器,使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn),同時(shí)又是非常靈活和靈活的,當(dāng)作為一個(gè)研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板(FPCB)、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的??尚D(zhuǎn)磁控管,涂層寬度為2000毫米,可能的襯底輥直徑為500毫米,是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外,相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個(gè)過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時(shí)運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外,HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器,用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測所需的物理層特性,如層電阻率、反射率或透射比。


適合于真空對潔凈環(huán)境的要求

適合于真空對潔凈環(huán)境的要求 工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合,而顆粒是指能夠一個(gè)一個(gè)計(jì)數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體,凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn),從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門,也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。


鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題

鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題 鍍膜機(jī)是在高真空狀態(tài)下通過高溫金屬熔體鋁蒸發(fā),鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上,使金屬設(shè)備表面的塑料薄膜。真空鍍膜機(jī)技術(shù)作為一種特定的膜技術(shù),已廣泛應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)和生活。 鍍膜機(jī)涂布方法:離子鍍,濺射沉積(1)鍍膜機(jī):快速成膜0.1—50/min,設(shè)備比較簡單,容易操作;純度高,制備的薄膜;薄膜生長機(jī)制比較簡單。(2)薄膜的附著力較小,結(jié)晶過程是不的,重復(fù)性不夠好。 鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品脫膜是怎么回事?一、.產(chǎn)品的表面清潔度是不夠的,離子源清潔放大的長時(shí)間。二、用清洗劑清洗,或更換清潔劑,鍍膜機(jī)建議使用純凈水試驗(yàn)。三、工藝參數(shù)的變化是否可以在薄膜的厚度和電流進(jìn)行調(diào)整。


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