由水平調(diào)整的自準直儀發(fā)出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調(diào)變補償調(diào)節(jié)機構(gòu)，

使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。真空鍍膜加工

按有限元計算的真空狀態(tài)下的補償量再次調(diào)整，顯然，此時的反射光束已遠離自準直儀接收視場，但一旦真空室進入真空狀態(tài)，

反射光束又重新進入自準直儀的接收視場，記錄此時的兩維角度偏差。前后兩次顯示的兩維角度偏差基本吻合。

真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。

真空鍍膜廠家告訴你什么是膜色差異

膜色差異有二種（不包含色i斑），一種是整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。?

1．上中下膜色不一致稱為整傘（罩）均勻性不好，也稱有傘差。主要產(chǎn)生原因是均勻性修正板（補正板）有問題。?

2．傘片變形。也是膜色不勻的原因之一，特別是使用了較久的傘片，以往是均勻的，慢慢變得不均勻了，傘片變形就可能是主要原因了。?

3．膜料狀況的不一致，特別是升華和半升華膜料被打偏，挖坑等也會嚴重影響整罩和單片的均勻性。特別是有大量手工預(yù)熔時，各人的操作手法不一，得到的料況也會不一。?

三：無環(huán)境污染：目前國家大力倡導生產(chǎn)環(huán)保，因為一切鍍層資料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的損害適當小。

可是因為取得真空和等離子體的儀器設(shè)備精細貴重，并且堆積技術(shù)還把握在少量技術(shù)人員手中，沒有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護費用貴重.可是跟著社會的不斷進步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢會越來越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。