Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的

Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的，不需要經(jīng)升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。由于這種聚合物是自發(fā)的不需要催化劑。 促進聚合的催化劑通常是離子或離子化合物，固化后它們會多少殘留一些在涂層里。這些殘留的物質(zhì)能參與電荷的遷移，在一定程度上影響涂層的電性能。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止主要因室溫和固化溫度變化不同由熱膨脹引起的應(yīng)力問題。

Parylene高的絕緣強度和它的干膜潤滑性能使它完全能適合

除了這些內(nèi)在的性質(zhì)以外Parylene類涂層有優(yōu)異的電性能，它有優(yōu)異的節(jié)電性能-低的介質(zhì)損耗和高的介電強度，同時它還具有優(yōu)良的機械性能，有高的機械強度和低的摩擦系數(shù)，這二者的結(jié)合使Parylene成為對小型繞線傷害元件能能適用的絕緣層。細銅線的絕緣漆在嚴格的繞線操作時會被損壞，尤其是對較小的環(huán)形和圓筒形器件需要用一個涂層，它不僅能提供絕緣而且也能消除摩擦引起的繞線時對線的損傷。Parylene高的絕緣強度和它的干膜潤滑性能使它完全能適合于這種應(yīng)用。

        美國化學家Michael Szwarc在實驗室合成了parylene薄膜，18年后的1965年科學家William F. Gorham發(fā)明了化學氣相沉積合成parylene膜的方法，并通過商業(yè)化parylene沉積設(shè)備使parylene膜獲得了實用價值，從此Parylene開始蓬勃發(fā)展起來。

        Parylene的原理是用獨  特的真空氣相沉積工藝（CVD技術(shù)）制備，由活性小分子在基材表面"生長"出完全敷形的聚合物薄膜涂層，它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，號稱"無孔不入"可深入裂縫里和內(nèi)表面。這個家庭中基本的成員稱作Parylene,即聚對二，是一種完全線性的高度結(jié)晶結(jié)構(gòu)的材料。