電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的用途

電子束蒸發(fā)沉積鍍膜設(shè)備，具有有機(jī)材料沉積和金屬材料沉積成膜功能。它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件。期望大家在選購(gòu)電子束產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)?？捎糜阱儼雽?dǎo)體、金屬膜，氧化物、納米級(jí)單層及多層功能膜的連續(xù)沉積.

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電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備性能介紹

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)、銷(xiāo)售電子束產(chǎn)品，我們公司堅(jiān)持用戶(hù)為上帝，想用戶(hù)之所想，急用戶(hù)之所急，以誠(chéng)為本，講求信譽(yù)，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

設(shè)備性能技術(shù)指標(biāo)：

1、設(shè)備極限真空度：5×10-5Pa（電子槍靜止?fàn)顟B(tài)）。

2、設(shè)備總體漏放率：關(guān)機(jī)12小時(shí)后，真空度≤8Pa。

3、從大氣到抽到≤9×10-4Pa，40min(新設(shè)備充干燥氮?dú)?，提高了工作效率。

4、真空漏率：≤10-7Pa.l/s

電子束鍍膜機(jī)介紹

* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級(jí)分子泵為冷泵，前級(jí)泵為干泵

* 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾

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