曝光，是指被攝影物體發(fā)出或反射du的光線，通過照相機(jī)鏡頭投射zhi到感光片上，使之發(fā)生化學(xué)變化，產(chǎn)生顯dao影的過程。在攝影中，曝光就是光圈和快門的組合。

總結(jié)以上幾個(gè)名詞解釋，有三個(gè)因素能影響一張圖片是否正確曝光：光圈，快門速度，ISO（感光度）。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。如果進(jìn)光量不夠，我們可以開大光圈或者降低快門速度，還是不夠的話就提高感光度(ISO)。大光圈的缺點(diǎn)是解像度不如中等光圈，快門速度降低則圖片可能會(huì)糊，提高ISO后圖片質(zhì)量也會(huì)下降 。沒有的方案，如何取舍要靈活決定。

膠片上被極亮度光線照射的區(qū)域，在顯影時(shí)。其上幾乎所有的鹵化銀晶體都將轉(zhuǎn)化成黑色的金屬銀，這些區(qū)域在底片上是黑色的。

膠片上被中等亮度光線照射的區(qū)域，在顯影時(shí)，其上絕大多數(shù)（并非全部）鹵化銀晶體將會(huì)轉(zhuǎn)化成黑色的金屬銀，這些區(qū)域在底片上是暗灰色的。

膠片上被很弱光線照射的區(qū)域，在顯影時(shí)，其上只有少量鹵化銀晶體轉(zhuǎn)化成黑色的金屬銀，這些區(qū)域在底片上是淺灰色的。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

這被稱作為“抗蝕層”。在蠟層中刻出圖案，使底下的金屬部分顯露出來。制備好的金屬材料被浸漬在鹽酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的區(qū)域被刻蝕到所需的深度。之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價(jià)更少。