要想鍍出堅(jiān)固的鈦層，首先要有好的設(shè)備。因?yàn)樵阱兡み^(guò)程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過(guò)程中有雜氣摻入，顏色就會(huì)不理想，嚴(yán)重的還會(huì)脫鈦。好的設(shè)備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數(shù)小，堅(jiān)固不脫落，差的設(shè)備離化率低，鍍出來(lái)的膜層粗糙沒(méi)光澤，容易刮花脫落。

在高真空并且高溫的鍍鈦環(huán)境中，加入不同的氣體能鍍出不同的顏色。如加入N2，鍍出來(lái)的顏色是金色；加入C2H2，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會(huì)是彩色和藍(lán)色；如加入N2和C2H2，顏色就會(huì)是玫瑰金色。在鍍鈦過(guò)程中，使用的物質(zhì)是鈦和高純氣體，都是綠色環(huán)保的材料，由于是在高溫真空環(huán)境中生產(chǎn)，不會(huì)產(chǎn)生任何有害物質(zhì)，所以鍍出來(lái)的產(chǎn)品是非常安全環(huán)保的，可以通過(guò)各種安全測(cè)試。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

殘余氣體分子撞擊著真空室內(nèi)的所有表面，包括正在生長(zhǎng)著的膜層表面。在室溫和10-4Pa壓力下的空氣環(huán)境中，形成單一分子層吸附所需的時(shí)間只有2.2s?？梢?jiàn)，在蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，如果要獲得高純度的膜層，必須使膜材原子或分子到達(dá)基片上的速率大于殘余氣體到達(dá)基片上的速率，只有這樣才能制備出純度好的膜層。這一點(diǎn)對(duì)于活性金屬材料基片更為重要，因?yàn)檫@些金屬材料的清潔表面的粘著系數(shù)均接近于1。在10-2Pa～10-4Pa壓力下蒸發(fā)時(shí)，膜材蒸汽分子與殘余氣體分子到達(dá)基片上的數(shù)量大致相等，這必將影響制備的膜層質(zhì)量。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

后處理，涂面漆。第三節(jié)濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過(guò)程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來(lái)的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復(fù)性好，便于自動(dòng)化，已適當(dāng)于進(jìn)行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節(jié)電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領(lǐng)域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑?；“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

同時(shí)幾種涂層的硬度均高于HV3000，而且在高溫下可以有效的保持硬度，可以抵御高溫金屬液體對(duì)模具造成的應(yīng)力變形。有涂層公司針對(duì)此問(wèn)題研發(fā)了真空PVD鍍膜涂層前處理的新技術(shù)，結(jié)合其它表面技術(shù)和真空PVD鍍膜涂層復(fù)合作用，在改善液體金屬粘模和熱龜裂方面取得了一定的成績(jī)。例如HCVAC研發(fā)了一款設(shè)備可以在同時(shí)完成壓鑄模具的軟氮化 真空PVD鍍膜涂層，有效的解決了傳統(tǒng)涂層和氮化基體之間結(jié)合力差的問(wèn)題，進(jìn)一步提高了壓鑄模具的使用壽命。還有大多數(shù)公司則采用厚涂層的概念通過(guò)沉積足夠厚度的涂層來(lái)提高模具的使用壽命。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制