氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三

（1）電子行業(yè)

微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)

管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。

（3）核工業(yè)

鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長。筆者根據(jù)實(shí)測經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。1）高壓開關(guān)在連箱是鋁鑄件，往往容易有砂眼，且漏孔結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不易清洗。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長些。筆者測算，在測試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；氫和氦都是比較理想的示蹤氣體，空氣中的含量少，質(zhì)量輕，運(yùn)動(dòng)速度快，分子直徑小，同等條件下，直線運(yùn)動(dòng)距離長。在測試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。

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真空箱法氦質(zhì)譜檢漏的原理與系統(tǒng)特點(diǎn)

真空箱法氦質(zhì)譜檢漏的充氣回收檢漏系統(tǒng)

1．配置與氣路控制

真空箱：一般為雙工位，兩個(gè)不銹鋼真空箱，開門裝置可采用液壓方式，或加配重的手動(dòng)方式。

工件抽空系統(tǒng)：低真空泵及閥門，低真空測量充氮與回收系統(tǒng)：氦氣儲(chǔ)存罐(高壓罐)，氦氣回收取罐(低壓罐)，主壓縮機(jī)，輔壓縮機(jī)，過濾器以及一些高壓閥和真空閥門等。

真空箱抽氣系統(tǒng)：為自動(dòng)控制型，由面板、PLC系統(tǒng)(可編程邏輯控制器)，充氦回收系統(tǒng)，真空箱抽氣系統(tǒng)的電路部分以及為自動(dòng)檢漏過程提供參考信號(hào)的壓力傳感器和熱偶計(jì)，同時(shí)，實(shí)施對整個(gè)系統(tǒng)的工作控制，對檢漏過程和結(jié)果顯示。

2.系統(tǒng)檢測過程

1)、通過v1、V4，泵系統(tǒng)對工件和真空箱抽真空，如果限定的時(shí)間內(nèi)抽到限定的真空度，此時(shí)，電氣控制系統(tǒng)關(guān)閉V1，打開V2

2)、充氦系統(tǒng)通過V2對工件進(jìn)行充氦至核定的壓力，穩(wěn)定，關(guān)閉V2

3)、關(guān)閉V4，打開V3、V5，處在正常工作狀態(tài)待命的氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行檢漏，如果不漏，電氣控制系統(tǒng)指揮關(guān)斷V3、V5，打開V2對氦氣進(jìn)行回收。

4)、關(guān)閉V2打開V6對真空箱放氣，開啟真空箱更換工件。

5)、如果第三點(diǎn)檢漏儀檢測到超過設(shè)定值(漏率)的工件，檢漏儀聲光報(bào)警，將：工作內(nèi)的氦氣回收,對真空箱和管道巾的氦氣通過清潔泵抽除，免得影響檢漏儀的檢測效果和不污染檢漏儀。

6)、維持泵有一定的氦分流作用,不宜過大(不超過41),清潔泵也同樣。

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