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光刻膠 FUTURREX公司性價(jià)比出眾

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-30 07:45  






何為光刻膠

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種具有光化學(xué)敏感性的功能性化學(xué)材料,由光引發(fā)劑、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。

它被稱為是電子化工材料中技術(shù)壁壘較高的材料之一,主要利用光化學(xué)反應(yīng)將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細(xì)加工,同時(shí)在 LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應(yīng)用。

按照下游應(yīng)用,光刻膠可分為半導(dǎo)體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB(印刷線路板)用光刻膠等,其技術(shù)壁壘依次降低。

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光刻膠:半導(dǎo)體技術(shù)壁壘的材料之一

光刻是整個(gè)集成電路制造過程中耗時(shí)長、難度大的工藝,耗時(shí)占IC制造50%左右,成本約占IC生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過程重要的耗材,光刻膠的質(zhì)量對光刻工藝有著重要影響。

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光刻膠的核心參數(shù)是什么?

分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展,芯片制造特征尺寸越來越小,對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要,光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。

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