【廣告】
光纖磁控濺射鍍膜機(jī)組成
以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。
設(shè)備用途:
在光纖表面鍍制納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。配有陽(yáng)極層離子源進(jìn)行清洗和輔助沉積,同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質(zhì)量和牢固度。樣品臺(tái)可鍍制多種型號(hào)光纖產(chǎn)品
系統(tǒng)主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
雙室磁控濺射系統(tǒng)
想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊,請(qǐng)持續(xù)關(guān)注本公司。
設(shè)備簡(jiǎn)介
主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作,對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國(guó)內(nèi)優(yōu)的配置,從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開(kāi)發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇,可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置,比較靈活;標(biāo)配4只Φ2英寸永磁靶,4臺(tái)500W直流濺射電源,主要用來(lái)開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。磁場(chǎng)大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場(chǎng)小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。
【磁控濺射鍍膜設(shè)備】使用注意事項(xiàng)
以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。
磁控濺射鍍膜設(shè)備是目種鍍膜產(chǎn)品,相比傳統(tǒng)的水電鍍來(lái)講,磁控濺射鍍膜設(shè)備無(wú)毒性,能夠掩蓋,彌補(bǔ)多種水電鍍的缺陷。
近年來(lái)磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用,現(xiàn)國(guó)內(nèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn),
經(jīng)驗(yàn)豐富的卻造磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家,就一定會(huì)有一定的規(guī)模,這類磁控濺射鍍膜設(shè)備不像是小件的東西,
磁控濺射鍍膜設(shè)備其技術(shù)含量非常的高,選購(gòu)磁控濺射鍍膜設(shè)備時(shí)一定要先了解。
磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)含量高,那么就一定要擁有一個(gè)非常強(qiáng)大的磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)工程隊(duì)伍,
磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)資深的,磁控濺射鍍膜設(shè)備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設(shè)計(jì)配置。
磁控濺射鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均勻因素哪些?
想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容,請(qǐng)及時(shí)關(guān)注沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。
原理上講,兩點(diǎn):氣場(chǎng)和磁場(chǎng)
磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材,濺射出粒子沉積到基材上,整體靶材的電壓幾乎一致,不影響濺射速率。
0.4Pa的氣場(chǎng)情況是濺射速率較高的情況,氣場(chǎng)變化,壓強(qiáng)變大和變小都會(huì)影響濺射速率。
磁場(chǎng)大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場(chǎng)小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。
穩(wěn)定住氣場(chǎng)和磁場(chǎng),濺射速率也將隨之穩(wěn)定。
在實(shí)際情況下,氣場(chǎng)穩(wěn)定,需要設(shè)計(jì)布?xì)庀到y(tǒng),將布?xì)庀到y(tǒng)分級(jí)布置,保障鍍膜機(jī)腔體內(nèi)不同位置的進(jìn)氣量相同,同時(shí),布?xì)庀到y(tǒng)、靶材、基材等要遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)的抽氣口。需要穩(wěn)定磁場(chǎng),用高斯計(jì)測(cè)量靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度,由于磁場(chǎng)線本身是閉合曲線,靶材磁場(chǎng)回路兩端磁場(chǎng)強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng),可以選擇用弱磁鐵,同時(shí),基材要避開(kāi)無(wú)法調(diào)整的磁場(chǎng)變化較大的部分。磁控濺射設(shè)備的主要用途沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù),我們都以質(zhì)量為本,信譽(yù)高,我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。
另外,在設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面,磁控濺射過(guò)程中,需要基材與靶材保持同軸,如果旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行的話,也要同軸旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行。