鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。

鍍膜技術(shù)在太陽(yáng)能利用方面的應(yīng)用

當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。

鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用

　　防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

　　人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

      人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

1. 真空

在空間內(nèi)，低于環(huán)境大氣壓力的氣體狀態(tài)。

2. 真空度

表示真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來(lái)表示。

3. 真空區(qū)域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、分子束外延鍍膜機(jī)和激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。開(kāi)機(jī)械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理。

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結(jié)合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護(hù)金屬膜層的作用。

真空鍍膜設(shè)備對(duì)底涂層有何要求。

1、對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r(shí)間短。