鍍膜的工藝種類有哪些不同點(diǎn)?

鍍膜的工藝種類有哪些不同點(diǎn)？ 1、水電鍍： 一般適用于ABS料、ABS PC料的產(chǎn)品。主要工藝是將需電鍍的產(chǎn)品放入化學(xué)電鍍液中進(jìn)行電鍍。依據(jù)客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因?yàn)殡婂兒蟮漠a(chǎn)品其導(dǎo)電性顯著增強(qiáng)，關(guān)于某些需絕緣的部件怎么辦？ 方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時(shí)就不會(huì)被電鍍到，然后到達(dá)絕緣作用！當(dāng)然，涂了絕緣油的部位會(huì)變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護(hù)起來(lái)，同樣到達(dá)絕緣的作用。 2、真空離子鍍，又稱真空鍍膜：一般適用規(guī)模較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產(chǎn)品。一起因其工藝流程雜亂、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍貴重。現(xiàn)對(duì)其工藝流程作扼要介紹：產(chǎn)品外表清潔、去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。 真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特別； 工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。 3、兩種工藝的差異：水電鍍因工藝較簡(jiǎn)略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒(méi)有真空離子鍍嚴(yán)苛，然后被廣泛運(yùn)用。在東莞很簡(jiǎn)單找到此類的供貨商。而真空電鍍優(yōu)異供貨商在東莞、深圳兩地不是許多，至少俺目前沒(méi)有太多此類供貨商信息。但，水電鍍有個(gè)缺點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的作用也不是很抱負(fù)）。而ABS料耐溫只要80℃，這使得它的運(yùn)用規(guī)模被限制了。而，真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)運(yùn)用在高溫的部件就能夠進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運(yùn)用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在終噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品外表即有光澤、有耐高溫、一起又確保附著力。

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見(jiàn)：氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見(jiàn)辦法）。檢漏時(shí)，先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測(cè)定，當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后，用一個(gè)充溢氦氣的查驗(yàn)罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來(lái)，如圖4所示。查驗(yàn)罩充氦時(shí)先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會(huì)有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時(shí)刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時(shí)刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時(shí)刻小于0.5s,因而氦罩時(shí)刻30s即可。氦罩法可方便地測(cè)定被檢件總漏率，不會(huì)漏掉任何一處漏點(diǎn)，但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對(duì)被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時(shí)，氦氣就經(jīng)過(guò)漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測(cè)出，噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點(diǎn)。

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法 目前商業(yè)上已有很精制的設(shè)備安裝在顯微鏡下的載物臺(tái)的位置上。濺射鍍膜時(shí)，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉(zhuǎn)到面對(duì)電子槍（陰極）的位置，調(diào)節(jié)濺射室中的氣壓，輝光放電，陰極濺射，反應(yīng)濺射沉積。一定時(shí)間后，中斷濺射，把濺射沉積的試樣表面，轉(zhuǎn)回到面對(duì)物鏡的位置，觀察試樣表面的顏色，來(lái)評(píng)定沉積膜的厚度，當(dāng)要求的顏色得到時(shí)，鍍膜操作停止。

淺談?wù)婵斟兡C(jī)的定義、原理及應(yīng)用范圍

淺談?wù)婵斟兡C(jī)的定義、原理及應(yīng)用范圍 真空鍍膜機(jī)就是在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜機(jī)是指用物理的方法沉積薄膜。 真空鍍膜機(jī)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 真空鍍膜機(jī)技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開(kāi)始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見(jiàn)，其次，為紙張鍍膜。相對(duì)于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來(lái)源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢(shì)，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍。