減薄機主要特點

減薄機主要特點：

1、吸盤根據(jù)客戶的工藝要求可分為電磁吸盤和真空吸盤，吸盤大小可根據(jù)客戶需求定制，直徑320-600mm。。

2、砂輪主軸采用精密的高速旋轉(zhuǎn)電主軸，驅(qū)動方式為變頻調(diào)速轉(zhuǎn)速可以根據(jù)不同的工藝要求由PLC控制系統(tǒng)支持的驅(qū)動模式而相應改變轉(zhuǎn)速3000-8000轉(zhuǎn)可調(diào)。

3、砂輪進給模式分三段設置，能更方便地設置有效的減薄方案，提高減薄后的精密度和表面效果，

4、對刀方式在不改變砂輪和吸盤的情況下，針對不同厚度的工件只需要一次對刀就可以連續(xù)工作，不需要每次都要對刀。

5、本機采用高精密絲桿及導軌組件，驅(qū)動方式是伺服驅(qū)動，可根據(jù)不同材質(zhì)的工件及工藝要求由PLC控制的驅(qū)動模式而相應的改變絲桿的轉(zhuǎn)速，也就是砂輪的進刀速度，速度0.001-5mm/min可調(diào)，控制進給精度由高分辨率光柵尺檢測。

6、本機采用先進的臺灣品牌PLC和觸摸屏，自動化程度高，實現(xiàn)人機對話，操作簡單一目了然。

7、設備可檢測磨削扭力、自動調(diào)節(jié)工件磨削速度，從而防止工件磨削過程中因壓力過大產(chǎn)生變形及破損，自動補償砂輪磨損厚度尺寸，可使直徑150晶片厚度減薄到0.08mm厚而不會破碎。而且平行度與平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

8.減薄，LED藍寶石襯底每分鐘磨削速度高可減薄48微米。硅片每分鐘磨削速度高可減薄250微米。

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立式減薄機IVG-200S

設備概述：

名稱: 立式減薄機

型號: IVG-200S

該設備采用立式主軸結(jié)構(gòu)，工作時磨盤與工件盤同時旋轉(zhuǎn)，磨盤的進給采用微米步進電機進給系統(tǒng)，磨盤采用杯式金剛石磨盤，不但加工精度高，而且加工效率很高，為普通研磨效率的10倍以上。該系列設備廣泛應用各類半導體晶片、壓電晶體、光學玻璃、陶瓷、藍寶石襯底、FDD表面、電子過濾器、碳化硅等材料的超精密平面加工。