曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門(mén)和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過(guò)顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過(guò)曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。

曝光后要檢測(cè)曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

之后就進(jìn)行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過(guò)程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

當(dāng)需要較深的蝕刻要求時(shí)材料的因素并不重要（材質(zhì)質(zhì)量大差例外），同時(shí)為了生產(chǎn)效率的需要，要通過(guò)對(duì)蝕刻溶液濃度、配方組成的調(diào)整及蝕刻物理參數(shù)的調(diào)整來(lái)提高蝕刻速度，即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因?yàn)樘斓乃俣葧?huì)使溶液成分變化太快，會(huì)反過(guò)來(lái)影響到物理參數(shù)的控制難度，同時(shí)也會(huì)使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致，使蝕刻后的表面平滑度降低。


一些電子儀器和許多精密儀器、工藝品加工、室內(nèi)裝飾品中，不銹鋼蝕刻網(wǎng)和鋁板蝕刻網(wǎng)是很常見(jiàn)的！因?yàn)樗麄冇袃蓚€(gè)長(zhǎng)處：不生銹，商品表面光澤靚麗！用它們作為工藝品和電子件是再適合不過(guò)了！這兩種質(zhì)料的金屬蝕刻網(wǎng)在全國(guó)來(lái)說(shuō)也受到許多工藝品加工戶(hù)和電子公司的認(rèn)可和等待！并遠(yuǎn)銷(xiāo)到海內(nèi)外。金屬蝕刻在生活中的應(yīng)用種類(lèi)很多，一股分為：鋁材蝕刻網(wǎng)、鍍鋅蝕刻網(wǎng)、鐵板蝕刻網(wǎng)、不銹鋼蝕刻網(wǎng)、鋁合金蝕刻網(wǎng)等。