“等離子體”技術(shù)，是以特定超低頻率100Khz電能激發(fā)介質(zhì)（Nacl）產(chǎn)生等離子體，等離子體中的高速帶電粒子直接打斷分子鍵，使蛋白質(zhì)等組織裂解汽化成H2,O2,CO2,N2等低分子量氣體。

普通高頻500-4000KHz可改變電場下，粒子一方面無法獲得足夠的加速時(shí)間，處于往復(fù)的震蕩狀態(tài)；另一方面高頻下加劇的分子摩擦?xí)a(chǎn)生較強(qiáng)的熱效應(yīng)，且頻率越高產(chǎn)熱越多。

等離子技術(shù)的應(yīng)用

①以熱等離子體制備肖酸、聯(lián)氨和炭黑等產(chǎn)品。

②用熱等離子技術(shù)合成高溫碳化物、氮化物和硼化物,如碳化鎢、氮化鈦等。

③用熱等離子技術(shù)制備超細(xì)粉末,如0.01～1μm的三氧化二鋁、二氧化硅和氮化硅粉末。

④冷等離子體中的聚合薄膜的形成或清洗，如半導(dǎo)體工業(yè)中的氧化硅膜。

⑤在冷等離子體中實(shí)現(xiàn)材料表面改性，如離子氮化、滲碳等工藝。

⑥等離子體技術(shù)應(yīng)用于油氣田生產(chǎn)，可進(jìn)行深部解堵。

消融技術(shù)的改造

改良消融設(shè)備的缺乏： 近年來射頻及冷凍消融設(shè)備的開展曾經(jīng)進(jìn)入了明顯的瓶頸期，而微波消融設(shè)備的研發(fā)不時(shí)呈現(xiàn)新的打破。微波雙窗技術(shù)、真圓技術(shù)的呈現(xiàn)明顯進(jìn)步了微波消融的等圓率，使其具有更好的適形性； 微波天線輻射器處銜接資料的改良，也有效的改善了消融天線斷裂的問題；但是目前尚未能良好的處理微波消融穩(wěn)定性的問題，依然需求進(jìn)一步改良微波源、電纜性以及消融天線。

消融方案系統(tǒng)的開發(fā)與應(yīng)用：制定良好的消融方案，有利于進(jìn)步消融、減低術(shù)后的發(fā)作。消融方案主要包括： 術(shù)前方案、術(shù)中施行方案及術(shù)后考證三局部。