佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

真空鍍膜之多弧離子鍍 ：

多弧離子鍍又稱電弧離子鍍或陰極離子鍍是以鍍膜材料為陰極,陽極和真空室相連,陰極和陽極分別接到低壓大電流直流電源的負極和正極。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的z高溫度有限，加熱器的壽命也較短。蒸鍍時由于放電,在陰極表面上出現(xiàn)明亮的弧斑, 從而使陰極材料蒸發(fā)并電離, 形成金屬等離子體。引弧電極與陰極靶表面接觸和離開的瞬間,陰極和陽極之間形成穩(wěn)定的自持弧光放電。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

烘烤溫度：真空室抽氣時烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調(diào)純正的重要因素之一。要注意的是，我們的設備一般采用加熱棒烘烤，以熱電偶測溫，熱電偶的感溫端位置不能靠近發(fā)熱棒，否則不能反映爐內(nèi)環(huán)境和工件的實際溫度。

離子轟擊：指利用高能高密度的金屬離子流和ya離子流對工件進行離子轟擊清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件溫升過熱退火和轟出表面缺陷。

真空鍍膜：一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。

反應濺射就是在反應氣體環(huán)境中鍍膜，濺射過程中靶材會與濺射氣體發(fā)生化學反應。反應濺射一般沉積不導電的膜層，例如：Snox,ZnOx,Siox,SiNx等。物理l氣相沉積（真空鍍膜）基本方法：從膜層特點看，真空蒸鍍低溫時密度小但表面光滑、氣孔低溫時多、附著性不太好、內(nèi)應力為拉應力繞射性差。在反應濺射系統(tǒng)中，一般都加入Ar加速反應速度，即提高濺射速率。在反應濺射氣氛中，加入工作氣體越多，濺射速率越高，當加入的工作氣體過多時，反應氣體來不急將所有濺射出來的原子反應掉，膜層內(nèi)就會含有金屬，我們把這種狀態(tài)叫翻轉(zhuǎn)。在反應濺射過程中，無論翻轉(zhuǎn)與正常狀態(tài)，靶的濺射速率都沒有不反應濺射速率高。