鍍銅容易產(chǎn)生麻點(diǎn)。陽(yáng)極板含磷低，溶解不良，容易產(chǎn)生氧化亞銅顆粒，這是麻點(diǎn)的一個(gè)來(lái)源。陽(yáng)極板含磷太高，液面形成一圈黑油，也會(huì)形成麻點(diǎn)。適當(dāng)?shù)牧缀?質(zhì)量分?jǐn)?shù))應(yīng)該是0.04%～0.06%。光亮劑失調(diào)(比如，表面活性劑或S類光亮劑少)、光亮劑分解產(chǎn)物多都會(huì)形成麻點(diǎn)，要小心控制，并及時(shí)電解處理和定期用活性炭處理：氯根高也是麻點(diǎn)的一個(gè)原因，可以用碳酸銀處理。

真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附著力。

因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些。C、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門(mén)的七彩色就無(wú)能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題。