真空鍍膜加工流程較長，首先需要對將要進行鍍膜的產(chǎn)品進行外觀檢驗，將有瑕疵的產(chǎn)品挑出，因為真空鍍膜加工的膜層是納米級薄膜，無法覆蓋產(chǎn)品表面的外觀瑕疵。清洗上架，為了避免后制程對產(chǎn)品外觀造成二次損傷，所有產(chǎn)品使用治具上架，防止貨品之間，貨品與其他物品之間造成碰撞，為清洗做準備；清洗，產(chǎn)品會經(jīng)過打磨、噴砂等處理、再加之運輸防護、操作等，表面會殘留臘屎、油污、灰塵、膠印等臟污，需要除油除蠟處理；入爐上架，將產(chǎn)品上架至適合爐體的治具上，為入爐鍍膜做準備；真空鍍膜加工環(huán)節(jié)，即在爐內(nèi)沉積過程；對真空鍍膜加工產(chǎn)品進行外觀全檢；包裝，對真空鍍膜加工后產(chǎn)品進行防護。

真空鍍膜技術可使用的材料廣泛:可作為真空鍍膜材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以加工出多層結構的復合膜,滿足對涂層各種不同性能的需求。膜層具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點、表面細膩光滑并富有金屬光澤同時顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。工程車輛反光杯加工廠家

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摩擦系數(shù)較低，耐腐蝕性較好，耐磨性和抗沖擊性良好。陰極電弧離子鍍具有高的靶電離率和強的膜基鍵合力的優(yōu)點，但是在沉積過程中產(chǎn)生了許多大顆粒，這影響了膜的表面粗糙度。磁控濺射具有成膜粗糙度小，無大顆粒，光滑均勻的特點。然而，反應磁控濺射具有高反應性氣體或金屬靶的電離率，并且所獲得的膜往往具有許多空隙和缺陷，這傾向于導致不充分和致密的膜結構和差的耐腐蝕性。目前，兩種技術主要用于去除大顆粒污染。第二種是在運輸過程中對液體顆粒進行磁過濾。過濾陰極真空電弧沉積是一種磁場，引導等離子體繞過障礙物，而大顆粒由于電中性而與障礙物碰撞，從而去除大顆粒并避開薄膜。