在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。前階段有個(gè)客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導(dǎo)致氫氧化na水溶液溶液無(wú)法很好的滲透到油墨與金屬標(biāo)牌的連接處，從而沒(méi)辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長(zhǎng)浸泡的時(shí)間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

蝕刻、曝光和顯影是什么意思?

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上.

3、顯影：通過(guò)堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉.

IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國(guó)際流行的工藝，其實(shí)這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問(wèn)題真正應(yīng)用到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個(gè)手機(jī)殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質(zhì)檢等多個(gè)流程，把畫面植入殼體中間層，永遠(yuǎn)不會(huì)褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強(qiáng)，高清，臟的時(shí)候一擦就干凈了，相對(duì)來(lái)說(shuō)優(yōu)點(diǎn)還是很多的。


當(dāng)需要較深的蝕刻要求時(shí)材料的因素并不重要（材質(zhì)質(zhì)量大差例外），同時(shí)為了生產(chǎn)效率的需要，要通過(guò)對(duì)蝕刻溶液濃度、配方組成的調(diào)整及蝕刻物理參數(shù)的調(diào)整來(lái)提高蝕刻速度，即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因?yàn)樘斓乃俣葧?huì)使溶液成分變化太快，會(huì)反過(guò)來(lái)影響到物理參數(shù)的控制難度，同時(shí)也會(huì)使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致，使蝕刻后的表面平滑度降低。