真空電鍍廠介紹真空鍍膜的均勻性

真空電鍍廠介紹，真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。鍍液中的絡(luò)合態(tài)金離子在外加電場的作用，向陰極定向移動并補充陰極附近的濃度消耗。所以對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。 并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下面分別說一下：

均勻性主要體現(xiàn)在3方面：

一.真空電鍍廠闡述，厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。在這個過程中由于工藝流程復(fù)雜、環(huán)境設(shè)備要求高，因此單價比較高，小量產(chǎn)價格不實惠。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。

二.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。而光學(xué)鍍膜加工是指光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。

三.真空電鍍廠概述，晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。

在電鍍過程中如何檢查電鍍問題

①外觀檢查。零件應(yīng)無起泡、剝皮、手跡等，允許有輕微的水痕；除允許外不得有無鍍層現(xiàn)象，允許有輕微的夾具接觸點；鈍化膜應(yīng)為活躍的彩虹色，允許鈍化膜有輕微的劃傷，但不允許有脫落現(xiàn)象；外觀檢查一般應(yīng)按標(biāo)準(zhǔn)樣件進(jìn)行，大零件應(yīng)檢查100％，小零件采取抽檢。零排放技術(shù)，即使有排水系統(tǒng)，也將改變以往只以達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)為目標(biāo)的排放模式，而要將水資源本身和水中的可回收金屬全部加以回收。

②結(jié)合強(qiáng)度。鍍層的結(jié)合強(qiáng)度，可用鋼針或刀片在鍍層上交叉劃割，觀察交叉處有無起皮、脫落現(xiàn)象來判定。

③氣孔率。鍍層氣孔率一般可不進(jìn)行檢查。其檢查方法如下：用濾紙濕透試驗溶液，貼附在鍍層表面，保持5min左右，濾紙上出現(xiàn)藍(lán)色小點，說明鍍層有氣孔。如每平方厘米上不超過3個小點，則認(rèn)為合格。

④厚度檢查。鍍層厚度可用千分尺、塞規(guī)、螺紋環(huán)規(guī)等檢查，也可用點滴法檢查。點滴法是用吸管吸取溶液，在測定點進(jìn)行點滴，每滴溶液保持lmin用藥棉擦去，再滴第二點，直到暴露基體金屬為止，根據(jù)總的滴數(shù)計算鍍層厚度。

真空電鍍有什么特性：

A、真空鍍膜、PVD、東莞真空電鍍特性

　　金屬外觀/顏色均勻一致/耐久的表面，在各種基本的的空氣和直射陽光環(huán)境條件保持良好外觀。顏色深韻、光亮/經(jīng)濟(jì)，可減少清洗和擦亮顏色所必須的時間和成本 對環(huán)境無害，電鍍加工避免化學(xué)/具生物兼容性。

B、鍍膜特性

　　的附著力–可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力）。其它的技術(shù)，包括電鍍，噴涂都不能與其相比?？梢晕g刻出任何能夠想象出的設(shè)計圖案/可以使用在內(nèi)裝修或者室外 ，抗腐蝕。

C、PVD膜層抵抗力

　　耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定/抗酸/在常規(guī)環(huán)境下，戶內(nèi)或者戶外，都，不褪色，不失去光澤并不留下痕跡/正常的使用情況下不會破損。范圍上，厚度可控，可用于修復(fù)報廢零件，并且耐磨性好，耐腐蝕性強(qiáng)，潤滑性好，沒有黏著性，技術(shù)適用范圍廣。不褪色/容易清除油漆和筆跡 在強(qiáng)烈的陽光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落和爆裂膜層顏色種類繁多，表面細(xì)膩光滑，富有金屬光澤。

D、環(huán)保

　　真空電鍍高真空離子鍍膜技術(shù)——對人體和生態(tài)環(huán)境真正無害。