真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數(shù):0.23VSNi;

工作溫度:580℃;

優(yōu)點(diǎn):增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現(xiàn)象;廣泛應(yīng)用於鋼料成型加工。

要減少PVD鍍膜生產(chǎn)故障，提高PVD鍍膜從業(yè)人員的專業(yè)技能和工作責(zé)任心是十分重要的。離子鍍著的鍍膜可以極度緊密的附著在被鍍件上面，甚至當(dāng)被鍍件是車(chē)床刀具時(shí)，也不會(huì)影響它的保護(hù)與表面硬化性能。PVD 真空鍍膜的厚度一般約0.3m~5m，因此可以在幾乎不影響工件原先尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后亦不需要再加工

真空鍍膜加工、PVD真空電鍍特性

金屬表面耐磨/顏色均勻一致，持久光澤，在各種正?？諝夂完?yáng)光直射環(huán)境條件下保持良好外觀。顏色深韻、光亮，可減少清洗和擦亮顏色所必須的時(shí)間和成本對(duì)環(huán)境不會(huì)產(chǎn)生任何污染，在生產(chǎn)和佩戴過(guò)程中避免化學(xué)/具有生物兼容性。

真空鍍膜的物理過(guò)程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個(gè)工藝步驟：

（1）    鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）   鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）   鍍料粒子在基片表面的沉積

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

、真空鍍膜加工的表面硬度高 化學(xué)鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，高的甚至可達(dá)到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為 HV160-180，顯然化學(xué)鍍鎳層的硬度要遠(yuǎn)大于電鍍層的硬度.而其化學(xué)鍍鎳層經(jīng)過(guò)一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達(dá)HV900以上。