氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩(wěn)定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩(wěn)定性好、成本低的特點。由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優(yōu)良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。

氧化鋯存在三種穩(wěn)定度同素異晶體：單斜相，立方相和四方相。純氧化鋯的單斜相從室溫到1170℃是穩(wěn)定的，超過這一溫度轉變?yōu)樗姆较?，然后?370℃轉變?yōu)榱⒎较?，直?680℃發(fā)生融化。氧化鋯（YSZ）晶體是目前發(fā)現(xiàn)的抗輻照能力zui強的絕緣體材料，在輕水堆中可用作“燃燒”多余钚的惰性基材以及儲存核廢物的基體而倍受關注。

由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優(yōu)良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。從光學應用的角度來講，單晶氧化鋯(YSZ)因其折射率高、色散大、物化性能穩(wěn)定，常被用作高溫光學元件，以及在光學設備中作為激光基質晶體。

在高溫下 ，氧化鋯屬于立方螢石型結構，因為Zr4 直徑大于O2-離子直徑，所以可以認為，由Zr4 構成面心立方點陣，占據(jù)1/2的八面體空隙，O2-離子占據(jù)面心立方點陣所有四個四面體空隙。由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的耐磨性及耐化學腐蝕性等等優(yōu)良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。