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江蘇一六儀器 X射線熒光鍍層測(cè)厚儀
儀器簡(jiǎn)介
XTU系列測(cè)厚儀雖然結(jié)構(gòu)緊湊,但是都有大容量的開(kāi)槽設(shè)計(jì)樣品腔,即使超過(guò)樣品腔尺寸的工件也可以測(cè)試。
搭配微聚焦射線管和先進(jìn)的光路設(shè)計(jì),以及變焦算法裝置,可測(cè)試極微小和異形樣品。
檢測(cè)78種元素鍍層·0.005um檢出限·測(cè)量面積可達(dá)0.002mm2·深凹槽可達(dá)90mm。
外置的高精密微型滑軌,可以快速控制樣品移動(dòng),移動(dòng)精度0.005mm,速度10-30mm(X-Y)/圈,再小再多的樣品測(cè)試都沒(méi)有難度,讓操作人員輕松自如。
應(yīng)用領(lǐng)域
線路板、引線框架及電子元器件接插件檢測(cè)
鍍純金、K金、鉑、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析
手表、精密儀表制造行業(yè)
釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB
汽車、五金、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè)
衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS)
電鍍液的金屬陽(yáng)離子檢測(cè)
江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀
X射線熒光光譜測(cè)厚儀原理
一個(gè)內(nèi)層電子而出現(xiàn)一個(gè)空穴,使整個(gè)原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)原子壽命約為 (10)-12-(10)-14s,然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)。物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。這個(gè)過(guò)程稱為馳豫過(guò)程。馳豫過(guò)程既可以是非輻射躍遷,也可以是輻射躍遷。當(dāng)較外層的電子躍遷到空穴時(shí),所釋放的能量隨即在原子內(nèi)部被吸收而逐出較外層的另一個(gè)次級(jí)光電子,此稱為俄歇效應(yīng),亦稱次級(jí)光電效應(yīng)或無(wú)輻射效應(yīng),所逐出的次級(jí)光電子稱為俄歇電子。
它的能量是特征的,與入射輻射的能量無(wú)關(guān)。005mm鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)x射線熒光鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)minimumφ0。當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收,而是以輻射形式放出,便產(chǎn)生X射線熒光,其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。因此,X射線熒光的能量或波長(zhǎng)是特征性的,與元素有一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中 任一電子所填充,從而可產(chǎn)生一系列的譜線,稱為K系譜線:由L層躍遷到K層輻射的X射線叫Kα射線,由M層躍遷到K層輻射的X射線叫Kβ射線……。
江蘇一六儀器 X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列
技術(shù)參數(shù)
X射線裝置:W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管
準(zhǔn)直器φ 0.05 mm ;φ 0.1 mm;φ 0.2 mm;φ 0.5 mm; 準(zhǔn)直器任意選擇或者任意切換
近測(cè)距光斑擴(kuò)散度:9%
測(cè)量距離:具有距離補(bǔ)償功能,可改變測(cè)量距離,能測(cè)量凹凸異型樣品,變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)
樣品觀察:1/2.5彩色CCD,變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭,手動(dòng)對(duì)焦
放大倍數(shù):光學(xué)38-46X,數(shù)字放大40-200倍
隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片:十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um
其它附件:聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱