微弧氧化采用較高的工作電壓，將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域。微弧氧化電源性能指標(biāo)微弧氧化電源采用先進(jìn)的雙極性大功率脈沖電源，具有效率高、運(yùn)行穩(wěn)定、噪聲低、對(duì)電網(wǎng)干擾小等優(yōu)點(diǎn)。采用該技術(shù)可在鋁、鎂合金表面生長(zhǎng)一層致密的陶瓷膜,這層保護(hù)膜 與基體結(jié)合力強(qiáng)、尺寸變化小,耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能得到極大改善,在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化處理技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

       選用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁以及合金制品開(kāi)展表面加強(qiáng)解決，具備加工工藝全過(guò)程簡(jiǎn)易，占地小，解決能力強(qiáng)，生產(chǎn)制造率，適用大工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)勢(shì)。（3）生產(chǎn)效率高，施工可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)，大大提高勞動(dòng)效率。微弧氧化解決后的鋁基表面陶瓷膜層具備強(qiáng)度高，耐蝕性強(qiáng)，介電強(qiáng)度好，膜層與肌底金屬材料結(jié)合性強(qiáng)，并具備非常好的耐磨損和耐高溫沖擊性等性能。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化技術(shù)優(yōu)點(diǎn)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來(lái)講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。鈦合金用于航空航天領(lǐng)域需提高膜層的耐高溫性能及耐腐蝕性能，應(yīng)用于生物材料則通常需改善其生物活性。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦?lái)看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對(duì)膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對(duì)膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。