真空電鍍機(jī)的保養(yǎng)方法

1、真空電鍍機(jī)每完成兩百次以上的電鍍工作時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室進(jìn)行一次清潔，清潔的方法主要為用擦洗真空室內(nèi)壁，使內(nèi)壁上的鋁和發(fā)生反應(yīng)脫落并釋放氫氣，而后再用清水清洗一遍，后擦拭其他部位的污垢。

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

2、當(dāng)真空電鍍機(jī)的閥門或者泵連續(xù)工作一個(gè)月之后，需要對(duì)其機(jī)油進(jìn)行更換，如果是在雨季情況下工作，則半個(gè)月就應(yīng)更換一次。

3、如果真空電鍍機(jī)的擴(kuò)散泵連續(xù)使用了半年或者以上，則抽速會(huì)明顯變慢，此時(shí)應(yīng)當(dāng)將水管和電爐盤拆下，用將泵內(nèi)清洗一次，在用洗滌劑清洗一次，后用清水再?zèng)_洗一次。這樣清洗完畢之后即可等待水份會(huì)發(fā)完成再次安裝重新使用。在重新安裝的時(shí)候要注意先對(duì)設(shè)備進(jìn)行檢漏。

真空電鍍機(jī)灰塵處理方式

真空電鍍機(jī)應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項(xiàng)技術(shù)。但是真空電鍍機(jī)在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì)留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果，那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

我國(guó)真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)狀分析

1.設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2.設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。

3.真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

4.真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。

5.真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6.工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)（真空電鍍機(jī)系列）

由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空電鍍機(jī)中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

真空電鍍機(jī)作業(yè)指導(dǎo)手冊(cè)真空電鍍機(jī)作業(yè)指導(dǎo)手冊(cè)

1.開機(jī)前檢查水路是否暢通.

2.檢查氣路是否暢通.

3.開啟電源,打開”維持泵”開關(guān),并觀查機(jī)器各部位是否運(yùn)行順暢.

4.進(jìn)入加熱過(guò)程.

溫州真空電鍍機(jī)價(jià)格5.完成加熱后進(jìn)入生產(chǎn)狀態(tài).

6.生產(chǎn)時(shí)在關(guān)倉(cāng)門前,檢查物料擺放是否符合要求,卻保不會(huì)碰撞.

7.生產(chǎn)過(guò)程中隨時(shí)觀查各部們運(yùn)行情況及顯示屏和各種參數(shù)指標(biāo).

8.工藝完成后,要輕開倉(cāng)門,手拉倉(cāng)門直至停穩(wěn).

9.停機(jī)時(shí)將真空門吸合,抽至一定的真空,關(guān)閉除”停機(jī)”外所有開關(guān).

10.待真空電鍍機(jī)冷卻至所需溫度時(shí),方可關(guān)閉電源,空壓機(jī),冷確塔,維持泵.

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級(jí)濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由弦欢ù艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機(jī).濺射過(guò)程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對(duì)設(shè)備更加了解。