鍍層與鍍膜的基本原理是怎樣的

首先來(lái)分別介紹一下鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒大小)，表面光滑度更優(yōu)，對(duì)漆面較多“毛細(xì)孔、粗糙、重噴過(guò)漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車系漆面比較適用。而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應(yīng)的發(fā)生了改變。例如硬度比封釉更高，對(duì)需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車系)比較適用。

特別說(shuō)明：從過(guò)濾和反射紫外線的功能來(lái)說(shuō)，格耐鍍層比鍍膜更優(yōu)。因其不需添加成膜助劑與固化劑等成份，更純粹的石英玻璃分子覆蓋層 融合層，它的雙重過(guò)濾和反射紫外線能力更強(qiáng)。值得擔(dān)心的是，劣質(zhì)的鍍膜產(chǎn)品使用非環(huán)保性成膜助劑，甚至?xí)斐蓪?duì)漆面的二次化學(xué)傷害。

那么防護(hù)層的主要性能：首先，預(yù)防原車漆氧化與褪色：阻隔紫外線，大限度減少紫外線的透射傷害。其次，增加漆面光亮度：晶瑩透亮的玻璃分子使汽車漆面流光溢彩，光芒耀人。提升漆面硬度：提升抗磨損、抗劃痕性能。防止化學(xué)害，延長(zhǎng)漆面壽命：如堿性洗車、酸雨鹽霧、蟲(chóng)液樹(shù)膠、高溫嚴(yán)寒對(duì)車漆的傷害。增加車表的光滑度：手感絲滑,減少靜電、塵埃附著及風(fēng)阻系數(shù)，使日常養(yǎng)護(hù)更便捷。

真空鍍膜設(shè)備實(shí)驗(yàn)分析與討論蒸發(fā)磁控濺射鍍膜機(jī)

蒸發(fā)磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是設(shè)備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子離化沉積在基材上和真空中利用電阻加熱法對(duì)金屬絲進(jìn)行處理,

利用特定薄膜涂層實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品不導(dǎo)電和電磁屏蔽的作用,以滿足現(xiàn)行手機(jī)的電子產(chǎn)品制造行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品相關(guān):真空電鍍?cè)O(shè)備,真空鍍膜設(shè)備

這種設(shè)備集中了等離子體處理,陰極磁控濺射,電阻蒸發(fā)鍍膜裝置,工作可靠、重復(fù)性一 致性良好、沉積速率高快,附著力好,

膜層品質(zhì)細(xì)膩，可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易脫落。過(guò)程中實(shí)現(xiàn)了鍍膜工藝全自動(dòng)化控制,在基材表面利用真空鍍膜方法進(jìn)行涂層,蒸發(fā)磁控濺射鍍膜機(jī)具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點(diǎn),主要適用于電腦、手機(jī)、工業(yè)電子電器、可鍍制復(fù)合金屬膜、合金膜電磁屏蔽膜及特殊膜層等領(lǐng)域。

真空鍍膜設(shè)備鎂鋁合金鍍膜的性質(zhì)真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用范圍

真空鍍膜設(shè)備鎂和鎂的合金的低密度使其比性能提高。例如20o時(shí)的彈性模量為45Gpa,比鋁(70Gpa)和Ti(120Gpa)的低。鎂和鎂合金質(zhì)量小的特點(diǎn)使其在交通運(yùn)輸、航空I業(yè)和航天I業(yè)上具有巨大的應(yīng)用前景。真空鍍膜設(shè)備在空氣氣中鎂 會(huì)慢慢氧化，失去銀白光澤而變黑。若溫度提高至400C以上,鎂的氧化速度增快，超過(guò)500°C以后氧化速度更快，會(huì)著火燃燒,此時(shí)會(huì)生成氧化鎂和少量。鎂燃燒時(shí)會(huì)發(fā)出非常強(qiáng)烈的光亮,頗受人們的青睞。早期就被利用于攝影照明，給人們留下美好的形象和記憶。利用這一特點(diǎn) ,人們制作成的各種形色的在夜空飛舞,給人們帶來(lái)極大的歡樂(lè)。

由于化學(xué)活潑性高,金屬鎂是耐腐蝕性能最差的金屬之一。 各種類型大氣均會(huì)對(duì)鎂產(chǎn) 生程度不同的腐蝕作用。在干燥的空氣中,它的表面上形成一層暗淡的的疏松多孔氧化膜,在潮濕大氣中,生成的產(chǎn)物組成大致為Mgco3:3H2O Mgso4 7H2o Mg(OH)2。大氣濕度增加工業(yè)地區(qū)和海洋環(huán)境的大氣中所含的和氫化物等物質(zhì)能加重鎂的腐蝕。鎂中氯化物雜質(zhì)及鐵雜質(zhì)也會(huì)加速鎂的腐蝕。因此,工業(yè)生產(chǎn)的鎂錠必須鍍膜鈍化。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對(duì)于高反壓功率管來(lái)說(shuō)，它的工作電壓高，電流大，沒(méi)有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過(guò)高，易燒毀。對(duì)于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過(guò)厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。