電子束鍍膜設備介紹

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種。與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現(xiàn)利用高能電子轟擊坩堝內靶材，使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度的薄膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜機是由哪些部分組成的？

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享電子束產(chǎn)品的相關內容，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助！

設備組成：

設備由薄膜沉積室、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測及控制系統(tǒng)、安全保護系統(tǒng)組成。

作用：電子束蒸鍍常用來制備Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜設備簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售電子束，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備采用完全封閉的系統(tǒng)框架，結構緊湊，外觀更漂亮，使用更安全。6-10KW e型電子槍可選國產(chǎn)或進口，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設備廣泛應用于科研院所、高校在片狀、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物（ITO等氧化物）/導電薄膜/光學薄膜等。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。