所謂無(wú)塵并非100%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的影響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。無(wú)塵室中不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設(shè)定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。 無(wú)塵室中不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設(shè)定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。

      無(wú)塵室被定義為具備空氣過(guò)濾、分配、優(yōu)化、構(gòu)造材料和裝置的房間，其中特定的規(guī)則的操作程序以控制空氣懸浮微粒濃度，從而達(dá)到適當(dāng)?shù)奈⒘崈舳燃?jí)別。

　  氣流是控制潔凈度與溫濕度的主要因素，它對(duì)噪音也有一些影響。因此風(fēng)速測(cè)量，都是放在無(wú)塵室測(cè)試的步。風(fēng)速測(cè)量的目的，是確認(rèn)濾網(wǎng)送出的氣流滿足設(shè)計(jì)規(guī)范，其次是確認(rèn)氣流的均勻度。而對(duì)于制造品本身的帶電，則采用帶電程度很少的搬送形態(tài)及接觸部品材料，并藉由除電裝置進(jìn)行除電。在某些場(chǎng)合可能因現(xiàn)場(chǎng)的限制，室內(nèi)換氣量還必須用風(fēng)速乘以出口面積來(lái)?yè)Q算。

     在電子元件制品的制造過(guò)程中，微粒子污染對(duì)成品率有重大影響，故應(yīng)在過(guò)程中嚴(yán)格控制微粒子的數(shù)量，遵守“不攜入、不發(fā)生、不儲(chǔ)備、除去”四項(xiàng)基本原則以防止微粒子污染。

　 無(wú)塵室內(nèi)的浮游微粒子濃度，使用的過(guò)濾器即可容易達(dá)到零水平，實(shí)際的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)由于作業(yè)者、機(jī)器、周邊機(jī)械的發(fā)塵及基板運(yùn)送時(shí)所接觸的零件材料的發(fā)塵等，在制造品周邊揚(yáng)起了少許的微粒子，因而造成了元件清潔面的粒子污染。

　　無(wú)塵室內(nèi)防止微粒子污染基本原則：

      排除/除去

　　在無(wú)法避免大量微粒子發(fā)生的機(jī)臺(tái)中，為了不讓無(wú)塵室內(nèi)產(chǎn)生微粒子，因此直接做對(duì)外排氣的動(dòng)作，即所謂的局部排氣。針對(duì)排氣的對(duì)策如下：由于導(dǎo)入同量的外氣是必要的，但會(huì)伴隨大量的能源消耗。所以無(wú)法說(shuō)是理想的對(duì)策。6）人類在頭部和軀干做動(dòng)作時(shí)每分鐘將產(chǎn)生1000000個(gè)大于0。因此盡可能地在壓縮排氣量的同時(shí)，不僅僅是向無(wú)塵室外排氣，負(fù)離子檢測(cè)儀而應(yīng)采用將除去粒子后的空氣再回流到無(wú)塵室內(nèi)之對(duì)策。