主鹽濃度過低

對于氯化甲鍍鋅、光亮酸銅、鍍鎳等簡單鹽電鍍，當主鹽濃度過低時，鍍層易燒焦。原因是：（1）主鹽濃度過低時，陰極界面液層中主鹽濃度本身很低，電流稍大，放電后即缺乏金屬離子，H 易乘機放電；（2）鍍液本體的主鹽濃度低，擴散與電遷移速度都下降，陰極界面液層中金屬離子的補充速度也低，濃差極化過大。

配合物電鍍則較復(fù)雜。若單獨提高主鹽濃度，則配合比變小，陰極電化學(xué)極化不足。在保持配合比不變的前提下，要提高主鹽濃度，配位劑濃度應(yīng)按比例提高，即鍍液應(yīng)濃，但這受多種因素制約，鍍液濃度不可隨意提高。

赫爾槽試驗時，若認為主鹽濃度過低，可補加后再試驗，使燒焦區(qū)在其他條件相同的情況下，達到或接近新配液的試片燒焦范圍。

簡單鹽電鍍

（1） pH 高時，陰極界面液層中H 濃度本身就低，量不大的H 還原即會使pH 升高至產(chǎn)生燒焦的值。

（2） 鍍液本體的H 濃度低時，H 向陰極界面液層的擴散、電遷移速度也低，來不及補充陰極界面液層中H 的消耗，其pH 上升更快，也加劇燒焦。

電鍍工藝介紹

電鍍工藝的基本原理

電鍍是一種電化學(xué)過程，也是一種氧化還原過程.電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。例如鍍鎳時，陰極為待鍍零件，陽極為純鎳板，在陰陽極分別發(fā)生如下反應(yīng)：

陰極(鍍件)：Ni2 2e→Ni (主反應(yīng))

2H 2e→H2↑ (副反應(yīng))

陽極(鎳板)：Ni-2e→Ni2 (主反應(yīng))

4OH-－4e→2H2O O2 (副反應(yīng))

不是所有的金屬離子都能從水溶液中沉積出來，如果陰極上氫離子還原為氫的副反應(yīng)占主要地位，則金屬離子難以在陰極上析出.根據(jù)實驗，金屬離子自水溶液中電沉積的可能性，可從元素周期表中得到一定的規(guī)律。

陽極分為可溶性陽極和不溶性陽極，大多數(shù)陽極為與鍍層相對應(yīng)的可溶性陽極，如：鍍鋅為鋅陽極，鍍銀為銀陽極，鍍錫-鉛合金使用錫-鉛合金陽極，但是少數(shù)電鍍由于陽極溶解困難，使用不溶性陽極，如酸性鍍金使用的是多為鉑或鈦陽極，鍍液主鹽離子靠添加配制好的標準含金溶液來補充，鍍鉻陽極使用純鉛，鉛-錫合金，鉛-銻合金等不溶性陽極。

電鍍生產(chǎn)線電鍍液溫度如何控制

電鍍工序的質(zhì)量控制

影響電鍍質(zhì)量的因素是多樣的，小編主要從以下9個方面來講述如何控制電鍍產(chǎn)品質(zhì)量。

1 全過程控制

鍍件質(zhì)量特性受全過程各環(huán)節(jié)工作質(zhì)量的影響，如“低氫脆”受酸洗、電鍍及驅(qū)氫等分工序的影響。因此，應(yīng)建立自材料供應(yīng)、鍍前處理、電鍍、鍍后處理、成品檢驗等全過程的質(zhì)量控制系統(tǒng)。

2 控制點

從鍍件質(zhì)量特性分析著手，在工序流程中找出影響鍍件質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié)和發(fā)生質(zhì)量問題的環(huán)節(jié)，建立控制點進行重點控制。找出主要影響因素，明確規(guī)定控制項目、內(nèi)容和方法。一般在原材料進廠檢驗、浸蝕、電鍍、驅(qū)氫、鈍化環(huán)節(jié)設(shè)立控制點。

3 工藝文件

不同的電鍍零件要根據(jù)其特性分別編制合適的工藝文件。對不同的工藝流程，處理液和電鍍液的成分、配比，電鍍的工藝參數(shù)（電流密度、工作溫度、時間、PH值等）、操作方法等應(yīng)積極進行正交試驗，找出較佳工藝方案，提高工藝水平，積累成熟工藝經(jīng)驗。

4 工藝材料對工藝用的化工原料、金屬陽極等原材料必須制定嚴格的質(zhì)量標準，明確規(guī)定原材料規(guī)格、牌號、純度級別、雜質(zhì)允許的較高含量等內(nèi)容。當市售的原材料純度滿足不了質(zhì)量要求時，應(yīng)通過試驗確定詳細的純化方法和質(zhì)量要求。原材料的變更或代用應(yīng)經(jīng)技術(shù)部門小試、中試及小批量試驗合格后，由相應(yīng)主管批準，才能投入使用。采購進廠的原材料都要經(jīng)過嚴格的質(zhì)量證明文件的驗收和取樣分析檢驗，驗收合格才能入庫。

電鍍件鹽霧測試標準有哪些

電鍍鹽霧分：中性鹽霧（NSS）、酸性鹽霧（ASS）、銅加速酸性鹽霧（CASS），重點判斷一般采用評級法，少數(shù)采用首先銹點法。相應(yīng)的標準號為：

NSS——QBT3826-1999電鍍中性鹽霧試驗(NSS)法

ASS——QBT3827-1999電鍍乙算鹽霧試驗(ASS)法

CASS——QBT3828-1999電鍍銅鹽加速乙算鹽霧試驗(CASS)法

至于鹽霧檢測終點判定和鹽霧檢測時間要求都是用戶與加工廠商定，國標沒有標準時間。

執(zhí)行與符合標準：ASTMB-117，CNS3627、3885、4519、7669、8886，GJB150，GB/T2423.17《Ka：鹽霧試驗方法》做中性鹽霧(NSS)，同時也可做乙算鹽霧(AASS、CASS)試驗。

鹽霧試驗標準本標準規(guī)定了中性鹽霧試驗中性鹽霧試驗中性鹽霧試驗中性鹽霧試驗所使用的設(shè)備、試劑和方法。

本標準用于評定金屬覆蓋層的抗鹽霧腐蝕能力，也可用于同一覆蓋層的工藝質(zhì)量比較。由于影響覆蓋層腐蝕的因素很多，單一的抗鹽霧性能不能代替抗其他介質(zhì)的性能。所以本標準獲得的試驗結(jié)果，不能作為被試覆蓋層在所有使用環(huán)境中抗腐蝕性能的依據(jù)，也不能作為不同覆蓋層在使用中抗腐蝕性能的對比依據(jù)。