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測(cè)厚儀廠家按需定制「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-29 11:47  







一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

xiao測(cè)量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀測(cè)量原理與儀器

一. 磁吸力測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

磁鐵(測(cè)頭)與導(dǎo)磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關(guān)系,這個(gè)距離就是覆層的厚度。利用這一原理制成測(cè)厚儀,只要覆層與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大,就可進(jìn)行測(cè)量。鑒于大多數(shù)工業(yè)品采用結(jié)構(gòu)鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型,所以磁性測(cè)厚儀應(yīng)用廣。測(cè)厚儀基本結(jié)構(gòu)由磁鋼,接力簧,標(biāo)尺及自停機(jī)構(gòu)組成。磁鋼與被測(cè)物吸合后,將測(cè)量簧在其后逐漸拉長(zhǎng),拉力逐漸增大。當(dāng)拉力剛好大于吸力,磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。新型的產(chǎn)品可以自動(dòng)完成這一記錄過(guò)程。不同的型號(hào)有不同的量程與適用場(chǎng)合。這種儀器的特點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便、堅(jiān)固耐用、不用電源,測(cè)量前無(wú)須校準(zhǔn),價(jià)格也較低,很適合車間做現(xiàn)場(chǎng)質(zhì)量控制。數(shù)據(jù)報(bào)告:對(duì)測(cè)量的數(shù)據(jù)結(jié)果進(jìn)行對(duì)比和分析,判斷數(shù)據(jù)是否正常,若出現(xiàn)異常可進(jìn)行多次測(cè)量排除偶然誤差14。

二. 磁感應(yīng)測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

采用磁感應(yīng)原理時(shí),利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀,原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí),儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭,測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小,儀器將該信號(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)計(jì)引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補(bǔ)償?shù)鹊匦录夹g(shù),利用磁阻來(lái)調(diào)制測(cè)量信號(hào)。還采用專利設(shè)計(jì)的集成電路,引入微機(jī),使測(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高(幾乎達(dá)一個(gè)數(shù)量級(jí))?,F(xiàn)代的磁感應(yīng)測(cè)厚儀,分辨率達(dá)到0.1um,允許誤差達(dá)1%,量程達(dá)10mm。無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-90mm。磁性原理測(cè)厚儀可應(yīng)用來(lái)測(cè)量鋼鐵表面的油漆層,瓷、搪瓷防護(hù)層,塑料、橡膠覆層,包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層,以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。

三. 電渦流測(cè)量原理鍍層厚度分析儀

高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng),測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí),就在其中形成渦流。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小,也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類測(cè)頭專門測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較,主要區(qū)別是測(cè)頭不同,信號(hào)的頻率不同,信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣,渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um,允許誤差1%,量程10mm的高水平。古董的檢測(cè)X熒光儀器在古董的檢測(cè)鑒定上也起著重要的作用,通過(guò)儀器檢測(cè)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行定性分析可得其元素成分,從而對(duì)產(chǎn)品的年限進(jìn)行一個(gè)判斷,得出結(jié)論。

采用電渦流原理的測(cè)厚儀,原則上對(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測(cè)量,如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆,塑料涂層及陽(yáng)極氧化膜。覆層材料有一定的導(dǎo)電性,通過(guò)校準(zhǔn)同樣也可測(cè)量,但要求兩者的導(dǎo)電率之比至少相差3-5倍(如銅上鍍鉻)。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體,但這類任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合適??茖W(xué)儀器在我國(guó)科技發(fā)展中起到的重要作用是不容忽視的,希望未來(lái)能夠看到更多拔萃的科學(xué)儀器為我國(guó)科技發(fā)展做出貢獻(xiàn)。


一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

定位方式:


    1、移動(dòng)平臺(tái):

       A、手動(dòng)(普通和帶精密滑軌移動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.5mm-0.005mm不等,移動(dòng)的靈動(dòng)性差距也很大。

       B、電動(dòng)(自動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.2mm-0.002mm不等

但同樣的手動(dòng)或者自動(dòng),其定位精準(zhǔn)也相差很多。

     2、高度定位:

         A、手動(dòng)變焦和無(wú)變焦

         B、激光對(duì)焦和CCD識(shí)別對(duì)焦



江蘇一六儀器    我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題。打開(kāi)儀器高壓鑰匙,觀察軟件界面管流值不為0值且正常上升至1000左右5。

-樣品觀察系統(tǒng)高分辨、彩色、實(shí)時(shí)CCD觀察系統(tǒng),標(biāo)準(zhǔn)放大倍數(shù)為30倍。50倍和100倍觀察系統(tǒng)任選。激光輔助光自動(dòng)對(duì)焦功能可變焦距控制功能和固定焦距控制功能

7計(jì)算機(jī)系統(tǒng)配置IBM計(jì)算機(jī):1.6G奔騰IV處理器,256M內(nèi)存,1.44M軟驅(qū),40G硬盤,CD-ROM,鼠標(biāo),鍵盤,17寸彩顯,56K調(diào)制解調(diào)器?;萜栈驉?ài)普生彩色噴墨打印機(jī)。

8分析應(yīng)用軟件操作系統(tǒng):Windows2000中文平臺(tái)中文分析軟件包:SmartlinkFP軟件包


     江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

     X射線熒光光譜測(cè)厚儀原理

    一個(gè)內(nèi)層電子而出現(xiàn)一個(gè)空穴,使整個(gè)原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)原子壽命約為 (10)-12-(10)-14s,然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)。這個(gè)過(guò)程稱為馳豫過(guò)程。馳豫過(guò)程既可以是非輻射躍遷,也可以是輻射躍遷。當(dāng)較外層的電子躍遷到空穴時(shí),所釋放的能量隨即在原子內(nèi)部被吸收而逐出較外層的另一個(gè)次級(jí)光電子,此稱為俄歇效應(yīng),亦稱次級(jí)光電效應(yīng)或無(wú)輻射效應(yīng),所逐出的次級(jí)光電子稱為俄歇電子。X射線熒光光譜儀特點(diǎn)1、一種真正意義上的無(wú)損分析,在分過(guò)程中不會(huì)改變樣品的化學(xué)形態(tài)。

     它的能量是特征的,與入射輻射的能量無(wú)關(guān)。當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收,而是以輻射形式放出,便產(chǎn)生X射線熒光,其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。因此,X射線熒光的能量或波長(zhǎng)是特征性的,與元素有一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中 任一電子所填充,從而可產(chǎn)生一系列的譜線,稱為K系譜線:由L層躍遷到K層輻射的X射線叫Kα射線,由M層躍遷到K層輻射的X射線叫Kβ射線……。通過(guò)加大加速電壓,電子攜帶的能量增大,則有可能將金屬原子的內(nèi)層電子撞出。


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