氦質(zhì)譜檢漏儀使用須知

1.設備應在施工工作完使用須知成后進行本測試，測試完成后不得進行焊縫的修磨等。

2.若設備被浸濕或有殘余的液體都會影響毛細管的泄漏而影響測試結果的真實性。

3.因氦比空氣輕，因此要注意檢漏的順序，檢查順序應依照由下而上， 由近而遠的順序進行。

4.檢漏過程中，如發(fā)現(xiàn)大量氦氣進入質(zhì)譜檢漏儀，應立即移去吸槍，防止因儀器長時間清除不掉氦影響而延誤測試。

氦質(zhì)譜檢漏儀工作原理

氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學原理制成的磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計，用氦氣作為示漏檢測氣體制成的氣密性質(zhì)譜檢漏儀器。其結構主要由進樣系統(tǒng)、離子源、質(zhì)量分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計等組成。離子源是氣體電離，形成一束具有特定能量的離子。質(zhì)量分析器是一個均勻的磁場空間，不同離子的質(zhì)荷比不同，在磁場中就會按照不同軌道半徑運動而進行分離，在設計時只讓氦離子飛出分析器的縫隙，打在收集器上。收集放大器收集氦離子流并送人到電流放大器，通過測量離子流就可知漏率。冷陰極電離真空計指示質(zhì)譜室的壓力及用作保護裝置。

真空壓力法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空壓力法檢漏時，需要將被檢產(chǎn)品整體放入真空密封室內(nèi)，真空密封室與輔助抽空系統(tǒng)和檢漏儀相連，被檢產(chǎn)品的充氣接口通過連接管道引出真空密封室后，再與氦氣源相連，當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時，氦氣就會通過漏孔進入真空密封室，再進入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。真空壓力法的優(yōu)點是檢測靈敏度高，能實現(xiàn)任何工作壓力的漏率檢測，反映被檢件的真實泄漏狀態(tài)。

氦質(zhì)譜檢漏儀應用行業(yè)

單晶硅 ，多晶硅，非晶硅磁性材料，真空爐 ，鍍膜機，互感器，避雷器，C-GIS組合電器，電力開關，真空滅弧室，高真空閥門 ，LED外延片，出口滅火器，X射線管，石化換熱器，磁流體，密封繼電器，氣體流量計 ，隔膜壓力變送器 ，氣體發(fā)生器  ，ITO鍍膜玻璃 ，LOW-E玻璃  ，壓力容器  ，化工容器，低溫儲罐  ，LNG 低溫氣瓶 ，玻璃燒結件，陶瓷密封連接器 ，陶瓷燒結件 ，TO封裝 ，高真空排氣臺，真空凍干機 ，光器件，石英晶體諧振器，高壓開關，換熱器，電真空器件，SF6管路，波紋管，ITO設備，半導體，輻照電線電纜 交聯(lián)電線電纜，真空釬焊，真空熱處理等。