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真空鍍膜機(jī)的真空室設(shè)計(jì)方法
真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或者化學(xué)方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設(shè)備采用的是磁控濺射鍍膜。
真空室是真空設(shè)備的一個(gè)主要組成部位,真空鍍膜設(shè)備真空室設(shè)計(jì)主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進(jìn)行的,材料對(duì)真空度的影響要小,設(shè)計(jì)不能馬虎,要注意一些問題。
使用磁控濺射的真空鍍膜機(jī)一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會(huì)緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會(huì)加裝磁控濺射,為了使真空室和元件有足夠的強(qiáng)度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠。
焊接是真空室制造中的一道關(guān)鍵工序,保證焊接之后的真空室不會(huì)產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象,真空鍍膜廠家,須合理設(shè)計(jì)焊接結(jié)構(gòu),提高焊接質(zhì)量,處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。
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真空鍍膜系統(tǒng)
真空室
涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式,不銹鋼材料制造、弧焊接、表面進(jìn)行化學(xué)拋光處理,真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。
真空獲得部分
在真空技術(shù)中,真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的,必須將幾種泵聯(lián)合使用,如機(jī)械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。
真空測(cè)量部分
真空系統(tǒng)的真空測(cè)量部分,就是要對(duì)真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測(cè)量。像真空泵一樣,沒有一種真空計(jì)能測(cè)量整個(gè)真空范圍,人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計(jì)。如熱偶計(jì),電離計(jì),皮拉尼計(jì)等。
電源供給部分
靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF),常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等。
對(duì)于真空鍍膜機(jī)必須要掌握的名詞
低溫冷凝泵:它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實(shí)現(xiàn)抽氣的一種泵,是目前獲得極限真空1高,抽速1大的抽氣泵。
冷凝泵的工作原理:主要是低溫表面對(duì)氣體的冷凝作用、冷捕作用及物理低溫吸附作用。
低溫冷凝:根據(jù)各種氣體的特性,采用液氦或者制冷循環(huán)氦氣來冷卻。
冷捕集:就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現(xiàn)象,通常二氧化碳、水蒸氣、氮?dú)?、壓氣等氣體首先形成霜,于低溫表面形成吸附層,進(jìn)而達(dá)到吸附其它氣體的目的,低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個(gè)原因。
低溫吸附:指低溫表面上的吸附劑吸附氣體的作用,由于吸附劑與氣體分子之間的相互作用很強(qiáng),故可達(dá)到氣相壓強(qiáng)比冷凝表面溫度下它的飽和蒸汽壓還低的水平。吸附劑通常是活性炭。
冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關(guān)系,經(jīng)數(shù)據(jù)顯示,單位冷凝表面積下的抽氣速率為11.6升/秒.平方厘米,冷凝泵可以抽到10-8帕;此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結(jié)構(gòu)、粘結(jié)材料及粘接工藝,對(duì)抽速也有很大的影響。其次關(guān)鍵在于制冷機(jī)的制冷量要足夠大。
真空計(jì):真空計(jì)是真空鍍膜機(jī)器上的重要組成部分,它是檢測(cè)鍍膜機(jī)真空度的重要手段。
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