考夫曼離子源是應用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，真空鍍膜涂料，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

       霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。

脆弱的、標本使用派瑞林（Parylene）加固保護、延長壽命，被譽為可給考古界帶來一場變革的新型保護材料，能解決其它材料不能解決的保護問題。通過 Parylene真空涂敷，可在歷經滄桑的戰(zhàn)矛表面致密均勻的鍍上一次涂層，能有效隔絕空氣中的水氧，防止對其進一步氧化腐蝕。

同時，派瑞林Parylene技術，還可以用于書籍畫卷、陶器、金銀銅器的表面防護，在不改變它們的外觀的情況下，起到防蛀、防霉、防氧化、防腐蝕的作用，從而增加歷史的壽命，真空鍍膜，給子孫后代遺留下更多的歷史。

       釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。近年來在小型馬達、汽車電子，納米真空鍍膜，工具、揚聲器、電力工具等方面應用發(fā)展很快。但釹鐵硼稀土磁性材料弱點是容易被空氣中的水分及氧氣所腐蝕，因此必須有一個的防護涂層釹鐵硼稀土磁性材料才有使用價值。

       Parylene涂層不僅有優(yōu)異的介電性能、低的介質損耗和高的介電強度，同時具有優(yōu)良的機械性能和耐輻射性能。Parylene如此高的介電強度主要歸功于Parylene能形成連續(xù)無缺陷和無其它填充物的薄膜。

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