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射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,曲阜鍍鈦服務,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時,靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(即靶極會自動處于負電位狀態(tài)),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優(yōu)點可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)
磁控濺射
磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場,裝飾鍍鈦服務,把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。
鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現(xiàn)在已經(jīng)在工業(yè)領域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。
在二十世紀七十年代末,人類就已經(jīng)開始物理氣相沉積技術,真空鍍鈦服務,即PVD技術。物理氣相沉積技術可以應用在硬質(zhì)膜的制造上,它能夠提高產(chǎn)品的機械化學性能,使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能,還可以減輕摩擦作用。這種技術在剛開始使用時,就在的工具制造業(yè)引起了巨大的反響,受到了高度重視。同時,這種技術工藝符合現(xiàn)代人們對環(huán)境無污染加工技術的要求,是一種綠色環(huán)保的技術。
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