原子層沉積是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法（技術(shù)）。當(dāng)前驅(qū)體達(dá)到沉積基體表面，它們會在其表面化學(xué)吸附并發(fā)生表面反應(yīng)。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應(yīng)器進(jìn)行清洗。由此可知沉積反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)能否在被沉積材料表面化學(xué)吸附是實現(xiàn)原子層沉積的關(guān)鍵。氣相物質(zhì)在基體材料的表面吸附特征可以看出，真空鍍膜手機(jī)，任何氣相物質(zhì)在材料表面都可以進(jìn)行物理吸附，但是要實現(xiàn)在材料表面的化學(xué)吸附必須具有一定的活化能，因此能否實現(xiàn)原子層沉積，選擇合適的反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)是很重要的。

       現(xiàn)在有采用 大型 噴涂 、直接 浸漬 、小型 設(shè)備 噴涂 、淋涂、刷涂 等多種 方式 ，各有 優(yōu)缺點 ，應(yīng)選擇 既節(jié)約成本，操作 簡單 ，又能保證質(zhì)量 的方法 ，盡量 不對N多參數(shù) 的涂料 進(jìn)行 調(diào)整 ，調(diào)制 工序 復(fù)雜 的涂料 產(chǎn)品 ，汕尾真空鍍膜，不可控因素較多的涂料 產(chǎn)品 也不易 選擇 ，如涂布 過程 中經(jīng)常 起泡 ，真空鍍膜加工，或涂膜 速度 過慢 等。

       同時 還要 采用 多種 方法 進(jìn)行 對比 試驗 ，在有限 的條件 下盡量 挑選 幾種 涂敷 方式 進(jìn)行 試驗 比較 ，從工序 、工時 、標(biāo)準(zhǔn)化 程度 、結(jié)膜 成功率 、涂敷 均勻度 、干燥 時間 、操作 難度 等方面 入手 ，找出 比較 適宜 的進(jìn)行 小批量 試產(chǎn) ，然后 推廣 到大批量 應(yīng)用 。

       真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，塑料真空鍍膜，這時(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

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