PECVD(Pulse Enhanced Chemical Vaporized Deition，電漿輔助化學(xué)氣相沉積)工法并配合密閉抽真空設(shè)備，所以納米等級的涂層顆?？梢皂樦麢C產(chǎn)品的微小縫隙飄進并附著于整機產(chǎn)品內(nèi)部的大多數(shù)角落位置，也因為涂層的縫隙比水分子還小，所以可以起到隔絕濕氣對電子產(chǎn)品的影響。另外，由于涂層的厚度大概有5-50nm，彈簧派瑞林鍍膜公司，彈簧類零件（如連接器）只要經(jīng)過摩擦就可以輕易的刮除這些涂層，達到電氣接觸的目的。

       采用壓力控制器方案，控制往真空腔體內(nèi)充入的惰性氣體的壓力以營造一個控制良好的鍍膜環(huán)境。與反應(yīng)腔體直接連接的外置真空計測量持續(xù)的過程壓力，該壓力讀數(shù)通過模擬信號傳輸?shù)綁毫刂破鞑@示。

       進入腔體內(nèi)的參與反應(yīng)的氣體的流量由質(zhì)量流量控制器控制。因為上述的壓力控制器可以測得腔體內(nèi)的壓力、并通過調(diào)節(jié)非反應(yīng)類氣體的含量實時調(diào)節(jié)過程壓力，從而使腔體內(nèi)形成利于沉積的鍍膜環(huán)境。

       離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，彈簧派瑞林鍍膜，如霍爾離子源或陽極層離子源。

       陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，彈簧派瑞林鍍膜定制，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多。

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