相對于傳統(tǒng)的電解鍍，熱浸鍍來說，真空鍍膜的主要特色是：

（1）成膜溫度低。鋼鐵職業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度通常是400℃～500℃，化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易導致被鍍件的變形、蛻變，而真空鍍膜的溫度低，真空電鍍，能夠降到常溫，避免了慣例鍍膜技能的弊端。

（2）蒸發(fā)源挑選自由度大?？商暨x的鍍膜資料多而不受資料熔點限制，真空電鍍表面處理，除了熱鍍鋅中常見的鋅、鋁、錫外，簡直能夠蒸鍍一切的金屬資料，還可鍍種類很多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

（3）不運用有害氣體、液體，對環(huán)境無晦氣影響。在當時越來越重視環(huán)保的大趨勢下，真空電鍍加工廠家，這點極為可貴。

（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能取得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪、鋅花等疑問。

（5）技能靈敏，改動種類便利?？慑儐蚊?、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于操控。經(jīng)過斷定鍍膜時間，能夠準確操控鍍層厚度，然后避免了熱鍍鋅中常見的厚度不易操控和呈現(xiàn)鋅浪等疑問。

總之，帶鋼真空鍍膜是一個集冶金、真空、化學、物理等學科于一體的高新技能，其商品具有高附加值，既有帶鋼的強度和便宜的特色，又有鍍膜后的多功能，多種類，高質(zhì)量的特點，是非常具有潛力的新式帶鋼資料的研制方向！

將活性氣體引入到真空鍍膜室通過活性氣體的原子（分子）與蒸發(fā)源中蒸發(fā)出來的原子發(fā)生化學反應(yīng)，生成化合物涂層的方法，真空電鍍報價，稱為反應(yīng)蒸鍍法。反應(yīng)即可在氣態(tài)空間中，也可在基片表面上進行，也可以兩者兼有。其中以在基片上進行反應(yīng)為主。反應(yīng)的進行通常與反應(yīng)氣體的分壓、蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)速度以及基片溫度等因素有關(guān)，所獲得的涂層可以是金屬合金，也可以是化合物。目前，這種方法已經(jīng)廣泛應(yīng)用于制備絕緣化合物膜層上。

真空電鍍是在真空條件下用蒸發(fā)器加熱待蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化并向基板運輸在基板上冷凝形成固態(tài)薄膜的過程。

真空電鍍與其他氣相沉積技術(shù)相比有許多優(yōu)點：設(shè)備比較簡單、容易操作；制備的薄膜純度高、成膜速度快；薄膜生長機理簡單，易控制和模擬。

真空電鍍技術(shù)的不足：不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜；沉積的薄膜與基板的附著性較差；工藝重復性不夠好。

真空蒸發(fā)鍍膜原理

（1、基片加熱電源；2、真空室；3、基片架；4、基片；5、膜材；6、蒸發(fā)盤；7、加熱電源；8、排氣口；9、真空密封；10、擋板；11、蒸汽流）

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