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真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理,表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物,為了避免加工過程中造成的不良,真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。
PVD真空鍍膜對人的危害是很小的。
1、電磁輻射很小。
2、真空泵排氣可以要直接到室外。
3、鍍膜結(jié)束后,打開真空室時,可能會有灰塵,注意別吸到呼吸道中。
4、不要長時間觀察等離子體束,金華PVD電鍍,可能對人眼睛有傷害。
5、如果需要加熱,注意別燙到。
6、注意工藝氣體不能泄露。
總體來說,真空濺鍍這種鍍膜方式危害很小。
離子鍍
工藝關(guān)鍵詞:真空氣體放電、解離靶材、轟擊基材
主要原理是利用氣體放電現(xiàn)象,將薄膜材料解離成離子狀態(tài),而后沉積于基板上。
離子鍍的基本鍍膜系統(tǒng)為PVD系統(tǒng),只是多加入反應(yīng)性氣體,使其與蒸發(fā)后的薄膜材料反應(yīng),而后沉積在基板上形成化合物,所以薄膜鍍層的組成成分與原薄膜材料不同,是基材靶材的化合物。
離子鍍基本上包括三個步驟 :
1. 將固態(tài)原子變成氣態(tài)原子:可用真空蒸鍍之各種蒸發(fā)源及各種濺射機制達到此一目的;
2. 將氣態(tài)原子變成離子態(tài),以提高原料的離子化程度(通??蛇_1%):可用各種離子元傳送能量給原料原子,以達到始之離子化的程度;
3. 提升離子態(tài)原料所帶的能量以提高薄膜的品質(zhì):可在基本上加上適當(dāng)負偏壓,以達到加速離子的能力。
離子鍍原理
離子鍍的特點如下:
1. 離子鍍可在較低溫度600度下進行;
2. 附著性良好;
3. 繞射性良好-帶電原子能達到基本的所有表面而沉積鍍層;
4. 沉積速度快,可達1~5um,而一般二級板型濺射速度只有0.01~1.0um/min;
5. 加工性及薄膜材料的選擇性廣,PVD電鍍加工,可加工除金屬外,陶瓷,玻璃 ,塑膠均可,而薄膜材料的選擇也很廣泛,金屬,合金,化合物皆可。
鋁型材鍍鈦金工藝屬于PVD鍍膜技術(shù),它是常規(guī)鍍鈦工藝基礎(chǔ)上增加預(yù)鍍和電鍍工藝步驟,預(yù)鍍工藝是將活化后的鍍件置于s鹽和鹽酸的水溶液中進行化學(xué)處理,電鍍工藝的鍍液成分包括十二烷基硫酸鈉、l酸鎳、光亮劑、糖精,PVD電鍍加工廠,本工藝具有使用,效果好,PVD電鍍哪里好,操作簡單等優(yōu)點。
隨著我國大規(guī)模的投資建筑和工業(yè)化進程的快速推進,鋁型材全行業(yè)的產(chǎn)量和消費量的迅速增長,然而我國也成為世界上大型的鋁型材生產(chǎn)基地和消費市場,經(jīng)過長達十年的高速增長,我國鋁型材行業(yè)步入了新的發(fā)展階段,并且展示了許多發(fā)展的趨勢。
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