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相對(duì)于傳統(tǒng)的電解鍍,江蘇真空電鍍,熱浸鍍來(lái)說(shuō),真空鍍膜的主要特色是:
(1)成膜溫度低。鋼鐵職業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度通常是400℃~500℃,化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易導(dǎo)致被鍍件的變形、蛻變,而真空鍍膜的溫度低,能夠降到常溫,避免了慣例鍍膜技能的弊端。
(2)蒸發(fā)源挑選自由度大??商暨x的鍍膜資料多而不受資料熔點(diǎn)限制,除了熱鍍鋅中常見(jiàn)的鋅、鋁、錫外,簡(jiǎn)直能夠蒸鍍一切的金屬資料,還可鍍種類(lèi)很多的金屬氮化膜,真空電鍍工廠,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為開(kāi)展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。
(3)不運(yùn)用有害氣體、液體,對(duì)環(huán)境無(wú)晦氣影響。在當(dāng)時(shí)越來(lái)越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下,這點(diǎn)極為可貴。
(4)帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能取得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等疑問(wèn)。
(5)技能靈敏,改動(dòng)種類(lèi)便利。可鍍單面、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于操控。經(jīng)過(guò)斷定鍍膜時(shí)間,能夠準(zhǔn)確操控鍍層厚度,然后避免了熱鍍鋅中常見(jiàn)的厚度不易操控和呈現(xiàn)鋅浪等疑問(wèn)。
總之,帶鋼真空鍍膜是一個(gè)集冶金、真空、化學(xué)、物理等學(xué)科于一體的高新技能,其商品具有高附加值,真空電鍍表面處理,既有帶鋼的強(qiáng)度和便宜的特色,又有鍍膜后的多功能,多種類(lèi),高質(zhì)量的特點(diǎn),是非常具有潛力的新式帶鋼資料的研制方向!
真空電鍍的質(zhì)量很大程度上取決于設(shè)備質(zhì)量和環(huán)境清潔度(無(wú)塵度)。
1、設(shè)備簡(jiǎn)介
大型設(shè)備有自動(dòng)流水線體(含UV流水線)、真空鍍膜機(jī)、輔助設(shè)備有產(chǎn)品治具、工裝夾具、有的廠還配有機(jī)器人。
2、環(huán)境要求
1、噴漆房外室:作業(yè)環(huán)境至少在10萬(wàn)級(jí)以下
真空流水線體
噴漆房?jī)?nèi)
靜電除塵段,作業(yè)環(huán)境至少在1萬(wàn)級(jí)以下。
真空鍍膜機(jī)
一般為門(mén)式裝置,打開(kāi)門(mén)可裝、卸(半)產(chǎn)品,關(guān)上門(mén)即可設(shè)定參數(shù)、真空作業(yè),此過(guò)程工藝環(huán)境必須在10萬(wàn)級(jí)一下操作
真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的原理和區(qū)別
1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,真空電鍍加工價(jià)格,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō),在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法。
2、光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率,以滿(mǎn)足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱(chēng)為增透膜或減反射膜。
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