常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO，二氧化硅SiO2，二氧化鈦TiO2，二氧化鋯ZrO2，二氧化鉿HfO2，一氧化鈦TiO，五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5，氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni，高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。　

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ST系列鍍膜機

ST系列鍍膜機系我司標準化產(chǎn)品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度：≤8Pa。

4、整機采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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真空鍍膜系統(tǒng)

工藝氣體輸入系統(tǒng)

工藝氣體，如氣(Ar)、氣(Kr)、氮氣(N2)、(C2H2)、(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點是，管路簡捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況，這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機會看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點是，由于接頭增多，使漏氣機會增加。而且，各涂層機之間會互相干擾，一臺涂層機的管路漏氣，有可能會影響到其他涂層機的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機臺都處于非用氣狀態(tài)。

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